設備名稱：粉體鍍膜設備
設備型號：JGCF1000
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結構：Φ600mmxL1000mm
粉體 / 顆粒尺寸：≥ 20um
物料裝載：槽式震動式，連續進料
產量：2000g
加熱烘烤：可選
濺射源：矩形 / 圓柱靶
占地面積：L1620mm×W1060mm×H1900mm
總功率：≥ 20kW
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
報警及保護系統：完善的邏輯程序互鎖保護系統

1. 在微米級以上粉體顆粒表面沉積各種納米級單層及多層導電膜、半導體膜、絕緣膜等；

2. 系統可用于粉體顆粒表面金屬化，達到表面導電，例：碳化硅表面鍍鈦，氧化鋁表面鍍鎳等 ;

3. 系統可用于粉體顆粒表面反射率的改變，應用于化妝品、汽車等高端外觀粉體涂料，例：玻璃微珠鍍氧化鈦等；

4. 系統可用于粉體顆粒表面層成份改變，應用于新型合金材料改變其中某一成份含量；

5. 系統可用于粉體顆粒表面沉積新材料，有效提高粉體固化粘結強度，例：金剛石粉鍍鉻等

6. 廣泛應用于粉體燒結、3D 打印原材料、粉體表面光學性能改變等行業及研究方向。

我公司**技術，粉體顆粒涂覆技術國內**，微米級粉體包覆率大于 90%，結合力好；

已能實現產品系列化滿足科研及批量化生產之需求。