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PVD大面積磁控鍍膜設備JCPF2600品牌
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設備名稱：PVD大面積磁控鍍膜設備
設備型號：JCPF2600
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結構：SUS304 方箱式
真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空：優于 5.0x10-5Pa
基片臺尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度：常溫
濺射靶：矩形平面靶1套，旋轉柱狀靶2套
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積：15000mmx5000mm
供電總功率：≥ 20kW 三相五線制
1. 大面積，復合型，批量制備，潔凈真空不同功能復合涂層制備，可獲得更高電池轉換效率；
2. 廣泛應用于鈣鈦礦空穴傳輸層及金屬背電極等膜層的制備；
3. 技術先進、設計優化，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
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