參考價格
面議型號
電子束光刻機品牌
安徽澤攸產地
安徽樣本
暫無看了電子束光刻機的用戶又看了
留言詢價
電話詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）采用場發射電子槍，配合一體化的高速圖形發生系統實現對半導體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統標配高精度激光干涉樣品臺，允許用戶實現大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半導體、微電子、光子、量子研究領域發揮重要作用。
產品特色
▲ 激光干涉樣品臺：先進的激光干涉樣品臺，滿足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 場發射電子槍：高分辨場發射電子槍是光刻質量的重要保證
▲ 圖形發生器：在保證超高速掃描的同時實現超高分辨率圖案繪制
樣品臺指標
▲ 標配：激光干涉樣品臺
▲ 樣品臺行程：≥105 mm
▲ 拼接精度：優于50nm（平均值+ 1σ）
▲ 套刻精度：優于50nm（平均值+ 1σ）
電子槍及成像指標
▲ 肖特基場發射電子槍：加速電壓20V~30kV；旁側二次電子探測器和鏡筒內電子探測器
▲ 圖像分辨率：≤1 nm @ 15 kV；≤1.5 nm @ 1 kV
▲ 束流密度：> 7000A/cm2；電子束流≥100nA
▲ *小束斑尺寸：≤2nm
光刻指標
▲ 電子束閘：上升沿<100ns
▲ 寫視場：≥500×500 um
▲ *小單次曝光線寬：＜15nm（同時取決于工藝條件）
▲ 掃描速度：≥20MHz
圖形發生器參數
▲ 控制核心：高性能FPGA
▲ 停留時間*小增量：10ns
▲ **掃描速度：50MHz
▲ 圖形文件格式：GDSII、DXF、BMP等
▲ D/A分辨率：20位
▲ 法拉第杯束流測量：包含
▲ 支持的寫場大小：50um~500um
▲ 臨近效應校正：可選項
▲ 束閘支持：5V TTL
▲ 激光干涉位移臺：可選項
▲ 掃描方式：順序掃描（Z型）、循環掃描（S型）、螺旋型掃描等多種矢量掃描模式
▲ 曝光模式：支持場校準、場拼接，支持套刻，支持多圖層自動曝光
▲ 外接通道支持：支持電子束掃描、工件臺移動、束閘通斷、二次電子檢測
選配附件
▲ 配套UPS不間斷電源
▲ 配套主動減震臺，*低自然頻率2Hz
暫無數據！
近日，浙江大學張澤院士、王江偉研究員團隊作為第一單位在《Nat. Commun.》上發表了題為《In situ atomistic observation of disconnection-media
近日，蘇州科技大學作為第一單位，在《Inorg. Chem.》上發表了題為《Exploration of CeO2?CuO Quantum Dots in Situ Grown on Gra
近日，澳大利亞昆士蘭理工大學作為第一單位，在《NanoLetters》上發表了題為《Mechanical, Electrical, and Crystallographic Property Dyna
電子束光刻機的工作原理介紹？電子束光刻機的使用方法？電子束光刻機多少錢一臺？電子束光刻機使用的注意事項電子束光刻機的說明書有嗎？電子束光刻機的操作規程有嗎？電子束光刻機的報價含票含運費嗎？電子束光刻機有現貨嗎？電子束光刻機包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
