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大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 設備一體化設計，占地面積小，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；
2. 設備配備多組蒸發源，兼容有機蒸發與無機蒸發 , 多源共蒸獲得復合膜。設計專業，功能強大，性能穩定；
3. 適用于實驗室制備金屬單質膜、半導體膜、有機膜，也可用于生產線前期工藝試驗等。
設備型號：ZHD400
鍍膜方式：多源蒸發鍍膜
真空腔室結構：立式方形前開門結構
真空腔室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm
加熱溫度：室溫～ 300℃
基片臺尺寸：120mm×120mm
膜厚不均勻性：≤ ±5.0%
蒸發源：2-3 組金屬源 /2-3 組有機源
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：主機 L1710mm×W850mm×H1850mm
總功率：≥ 8kW
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