設備名稱：鈣鈦礦太陽能電池磁控濺射設備（不與手套箱連接）
設備型號：JCP500
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結構：立式圓腔前開門結構 側置抽氣系統
真空腔室尺寸：Φ500mm×H420mm
基片臺尺寸：Φ150mm
膜厚不均勻性：≤±5.0%（100mmx100mm范圍內）
基片臺加熱：室溫～500℃
基片臺水冷：10℃～30℃
濺射靶：φ3英吋靶*3支 兼容DC/MF/RF濺射
晶振膜厚監控儀：國產或進口（可選）
控制方式：PLC + 觸摸屏控制
占地面積：L1750mm×W800mm×H1900mm
總功率：≥10kW

1.國內技術**、市場占有率**，設計優化，性能穩定，使用維護成本低。

2.廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池及復合功能薄膜材料制備等應用。