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CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備品牌
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沈陽樣本
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CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備詳情
CVD設(shè)備適用于熱絲法化學(xué)氣相沉積金剛石，采用鎢絲/鉭絲作為加熱器，加熱分解碳物質(zhì)，激活化學(xué)氣相反應(yīng)，制備金剛石膜。
安裝形式 | 立式 |
加熱器分布方式 | 圓周分布 |
加熱器材質(zhì) | 鎢絲/鉭絲 |
保溫材料 | — |
MAX溫度 | 3000℃ |
控溫精度 | ±1℃ |
均溫性 | ±5℃ |
極限真空度 | 5×10-4Pa |
均溫區(qū)尺寸 | 按客戶要求定制 |
控制方式 | 自動/手動 |
暫無數(shù)據(jù)！
真空技術(shù)作為現(xiàn)代工業(yè)的核心工藝之一，其相關(guān)設(shè)備廣泛應(yīng)用于制造、化工、食品、家電、光伏、半導(dǎo)體等國民經(jīng)濟的關(guān)鍵領(lǐng)域。近年來，隨著我國經(jīng)濟持續(xù)高速發(fā)展和產(chǎn)業(yè)升級加速，真空設(shè)備的應(yīng)用邊界不斷拓寬，尤其在光伏
隨著光伏產(chǎn)業(yè)、電子元件、半導(dǎo)體等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模的持續(xù)擴大，以及我國進一步強化在全球太陽能電池及組件、電子信息等產(chǎn)業(yè)的制造基地地位。這一趨勢帶動了國內(nèi)各類新材料以及真空設(shè)備制造業(yè)的發(fā)展，并為國內(nèi)真空爐設(shè)備
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