設(shè)備型號(hào)：ZHDS500
鍍膜方式：金屬 + 有機(jī)蒸發(fā)
真空腔室結(jié)構(gòu)：SUS304 方箱式，配有前、后門(mén)
真空腔室尺寸：L500mmxW500mmxH650mm
加熱溫度：室溫-300℃（選配）
基片臺(tái)尺寸：抽屜式:220mmx220mm可旋轉(zhuǎn)、升降、水冷
膜厚不均勻性：≤±5.0%（220mmx220mm范圍內(nèi)）
蒸發(fā)源：金屬/有機(jī)4-6組
晶振膜厚監(jiān)控儀：國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口（可選）
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率：≥12kW 三相五線制

1. 技術(shù)先進(jìn)、設(shè)計(jì)優(yōu)化，性價(jià)比高，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；

2. 廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池/OPV有機(jī)太陽(yáng)能電池等各種膜層的制備；

如：鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備