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微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統 —— A型品牌
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微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）系統 —— A型 一款典型的微波等離子體化學氣相沉積裝置，可以在50mm直徑的襯底范圍內進行金剛石單晶和多晶生長。 應用領域：工具、熱沉、光學窗口、寶石等。
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性能特點：
?**功率達到6kW ?微波反應腔新型設計，功率密度大 ?產品沉積速率快、沉積質量高 ?采用水冷全金屬腔體 ?采用高效散熱的樣品臺 ?設備安全性高、耐用性高、可靠性強 ?多參數實時監測，PLC屏幕控制，簡捷的人機交互界面 |
主要技術參數：
| 微波功率 | 0.6kW －6kW 連續可調 2.45GHz |
| 反應腔 | 圓柱形反應腔 |
| 真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
| 氣體質量流量控制 | 標配5路，可定制 |
| 工作氣壓 | 1kPa - 30kPa |
| 樣品臺 | 一層升降 |
| 基板臺類型 | 水冷式基板臺 |
| 襯底托 | **支持60mm直徑圓臺面積穩定沉積 |
| 操作系統 | PLC控制系統 |
| 樣平臺升降功能 | 有，可選 |
| 樣品臺旋轉功能 | 有 |
| 旋轉模式 | 連續旋轉、間歇旋轉 |
| 旋轉角度 | 360° |
| 旋轉速度 | 0-20轉/分，可調節 |
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