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小型臺式無掩膜光刻系統是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。 |
傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室桌面。 |
| 產品特點 | |
Focus Lock自動對焦功能 Focus lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測，并通過Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。 | 光學輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向**精度100 nm，方便快捷。 |
標記物自動識別 點擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。 | 別直寫前預檢查 軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過實時調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。 |
簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。 | Clewin 掩模圖形設計軟件 ?可以讀取多種圖形設計文件（DXF， CIF， GDSII， 等） ?可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式 ?書寫范圍只由基片尺寸決定 |
| 產品參數 |
為了更好滿足客戶需求，同時節省客戶采購成本，第三代Microwriter分為三個型號，基本型，增強型，旗艦型： |
| 應用案例 | |
直寫分辨率1μm | |
直寫分辨率0.6μm | |
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