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德國(guó)Nanoscrib雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X
德國(guó)Nanoscrib雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X

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德國(guó)Nanoscrib 雙光子微納3D打印機(jī)Quantum X

重新定義精密加工。

全新的量子X(jué)是世界上基于雙光子灰度光刻(2GL)的工業(yè)系統(tǒng)。我們的設(shè)備結(jié)合了灰度光刻機(jī)的**性能和納米篩網(wǎng)首創(chuàng)的雙光子聚合技術(shù)的精確性和靈活性。該無(wú)掩模光刻系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了二維和2.5D的衍射和折射顯微光學(xué)的快速制作。

Quantum X軟件實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè),并執(zhí)行自動(dòng)系統(tǒng)校準(zhǔn)。用戶-機(jī)器交互由專用觸摸屏或遠(yuǎn)程控制界面支持。

關(guān)鍵特性

2.5 d高速精密加工

超光滑的表面和**的形狀精度設(shè)計(jì)自由度,亞微米分辨率完整和超快控制體素尺寸自動(dòng)化過(guò)程,例如校準(zhǔn),

作業(yè)執(zhí)行和監(jiān)視

廣泛的基材樹(shù)脂組合,通過(guò)作業(yè)隊(duì)列觸摸屏和遠(yuǎn)程控制界面,連續(xù)執(zhí)行各種打印作業(yè)

TechnicalSpecifications

Printing technology:

Two-Photon Grayscale Lithography (2GL)

Minimum XY feature size:

160 nm typical; 200 nm specified*

Finest XY resolution:

400 nm typical; 500 nm specified*

Finest vertical steps:

10 nm, quasi-continuous topographies possible

Minimum surface roughness Ra:

≤ 10 nm*

Scan speed:

≤ 250 mm/s*

Area printing speed:

3 mm2/h typical for diffractive optical elements

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