德國(guó)Raith Voyager 新一代電子束光刻系統(tǒng)

高速且價(jià)格合理的電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)精確的曝光效果

對(duì)于工業(yè)界和學(xué)術(shù)界所有關(guān)注速度和高分辨的電子束曝光應(yīng)用，我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專(zhuān)業(yè)電子束光刻系統(tǒng)。

Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性?xún)r(jià)比、新開(kāi)發(fā)的、創(chuàng)新的eWRITE體系結(jié)構(gòu)。

系統(tǒng)的硬件和軟件被一致設(shè)計(jì)為自動(dòng)曝光操作，先進(jìn)的高性能圖形發(fā)生器和電子光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計(jì)并協(xié)同一致。

系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對(duì)外界環(huán)境的容忍度。

超高分辨率曝光系統(tǒng)

從*初設(shè)計(jì)到樣品制備完成，實(shí)現(xiàn)高速樣品加工，提高產(chǎn)量

智能設(shè)計(jì)：設(shè)備占地面積小，且集成環(huán)境屏蔽罩

創(chuàng)新的、未來(lái)安全型系統(tǒng)架構(gòu)

專(zhuān)業(yè)的電子束曝光系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)每小時(shí)1cm2的高速曝光，高性?xún)r(jià)比

eWrite技術(shù)

Raith新推出的eWrite技術(shù)結(jié)合了專(zhuān)業(yè)電子束光刻的光學(xué)系統(tǒng)和創(chuàng)新的圖形發(fā)生器設(shè)計(jì)，該技術(shù)適用于研發(fā)及批量生產(chǎn)的所有工作。

VOYAGER 應(yīng)用

.HSQ膠上制作亞7nm線(xiàn)條

.SU8膠上制作 1x1 cm2 菲涅爾透鏡，曝光時(shí)間為53分鐘，圖為菲涅爾透鏡中心區(qū)域

.PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結(jié)構(gòu)

.ZEP520膠上制作 1x1 cm2光柵結(jié)構(gòu)，曝光時(shí)間小于2小時(shí)

高速度模式（40nA束電流下曝光160um大結(jié)構(gòu)）和高分辨模式（0.4nA束電流下曝光10nm細(xì)小結(jié)構(gòu)）自動(dòng)切換

· ZEP520膠上制作光子晶體波導(dǎo)結(jié)構(gòu)

VOYAGER 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用:

。高速直寫(xiě)

。衍射光學(xué)元件

。防偽元件

。批量加工化合物半導(dǎo)體器件

樣品臺(tái):

。6“ 移動(dòng)范圍

。Z方向移動(dòng)范圍大

電子槍技術(shù):

。eWrite

。電子

。50 kV

獨(dú)特直寫(xiě)模式:

。traxx 長(zhǎng)線(xiàn)條無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式

。periodixx周期結(jié)構(gòu)無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式