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澤攸科技無(wú)掩膜光刻機(jī)是一種先進(jìn)的光刻技術(shù)設(shè)備，它不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來(lái)轉(zhuǎn)移電路圖形，而是通過(guò)計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光，形成所需的微細(xì)圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。
技術(shù)特點(diǎn)
▲ 納米壓電位移臺(tái)拼接技術(shù)
▲ 紅光引導(dǎo)曝光，所見即所得
▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量
▲ CCD相機(jī)逐場(chǎng)自動(dòng)聚焦
▲ 灰度勻光技術(shù)
光路遠(yuǎn)離結(jié)構(gòu)圖
主要指標(biāo)
應(yīng)用案例
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近日，蘇州科技大學(xué)作為第一單位，在《Inorg. Chem.》上發(fā)表了題為《Exploration of CeO2?CuO Quantum Dots in Situ Grown on Gra
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