NX-2600整片基板帶對準可多層次納米壓印加高分辨率光刻系統經過了大量的實時實地驗證，質量可靠，性能優越穩定。具備全部壓印模式：熱固化、紫外固化和壓印。基于獨特**保護的Nanonex氣墊軟壓技術（ACP），不論模版或基板背面粗糙程度如何，或是模版或基板表面波浪和弧形結構，NX-2600均可對其校正補償從而獲得****的壓印均勻性， ACP消除了基板與模版之間側向偏移，有效地延長了模版使用壽命。通過微小熱容設計可獲得快速的熱壓印周期，*終得到快速的工藝循環。

主要特點：

所有形式的納米壓印

l熱塑化

l紫外固化

l熱壓與紫外壓印同時進行

l熱固化 氣墊軟壓技術(ACP)

lNanonex**技術

l**的整片基板納米壓印均勻性

l高通量 低于10nm分辨率 亞1微米正面對準精度 背面對準可選項 快速工藝循環時間（小于60秒） 靈活性

l4″， 6″， or 8″壓印面積可選

l各種尺寸及不規則形狀模板與基板均可壓印

l方便用戶操作 基于超過12年、15代產品開發經驗的自動化壓印操作 Nanonex壓印系統經過大量實時實地驗證，質量可靠，性能優越穩定 全自動納米壓印

納米壓印系統參數

熱塑壓印模塊

l溫度范圍0～250℃

l加熱速度>300℃/分鐘

l制冷速度>150℃/分鐘

l壓力范圍0 ～ 3.8 MPa（550 psi）

紫外固化模塊

l200W窄帶紫外光源

l365納米或395納米波長可選

l全自動化控制 對準模塊

lX， Y， Z， Theta平臺

l分場光學和CCD相機

基板裝載

l標配納米壓印系統可裝載4″基板

l6″和8″基板可選

l各種尺寸及不規則形狀模板及基板均可壓印

l獨特**保護ACP技術可**限度保護基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和基板給予**限度保護。

光刻

l標配5”模板，標配4”直徑基板

l其他尺寸可以提供

l500瓦紫外水銀燈光源

應用領域：

納米電子和光電子、顯示器、數據存儲介質、先進材料、生物科技、納米流道等