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器簡介：射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS
射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
技術參數：
射頻離子源
安裝法蘭口徑：NW63CF，NW100CF
真空腔體內長度：290mm
真空腔體內端面直徑：57mm， 96mm
兼容氣體：O2， N2， H2， Ar
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：8-10sccm
束流能量：0.1-1kev
電流密度：可大到5mA/cm2
射頻原子源
安裝法蘭口徑：NW35CF，NW63CF，NW100CF
真空腔體內長度：290mm
真空腔體內端面直徑：34mm，57mm， 96mm
兼容氣體：O2， N2， H2， CH4
水冷
射頻功率：30-600W
氣體流量：0.01-20sccm
主要特點：
無燈絲
安裝容易，可方便地安裝在已有系統上
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