應用于IC、半導體制造及科研開發等領域

覆蓋生產線上所有非金屬薄膜

多參數和多層膜測量

技術參數：

Nanothi 100技術規格

可測薄膜

可測膜層 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等

膜層結構 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等單、多層結構

測量參數 T，N，K，R

測量范圍 25nm - 20µm (Oxide/Si)

硬件規格

光譜范圍 400-800nm

物鏡倍率 4X 10X 40X

光斑尺寸 *小30µm

機械分辨率 X：1µm， Y：1µm， Z：0.04µm

測量指標

250Å－2000Å 2000Å－20µm

準確度 ±1％ ±1％

重復性（3б） 0.75Å 0.05％

穩定性（3б） 2.4Å 0.25％

測量時間 單點 < 3sec， 5點 <30sec

主要特點：

先進的光學測量技術

高精度、高重復性測量

穩定、使用壽命長且低成本的光源

高性能PDA

自動調焦

三維全自動機械平臺

貼近生產實際操作習慣的軟件系統，為測量提供快捷、方便易用的操作

數據的準確測量與實時評價