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生產型磁控濺射設備是針對生產企業實驗室和產線研發的一系列高性能、高效率的磁控濺射裝備。MSI-200型磁控濺射設備采用多個真空腔室互聯的設計，通過Cluster內置的三維機械手實現晶圓的傳輸，可搭配多個濺射室或處理腔室，適用于生產產線或實驗線。
性能參數
晶圓尺寸 | 8吋向下兼容 |
| 極限真空 | 優于5×10-10mbar |
| 對接口 | 每節管道可連接一套系統，對接口CF250及以下。 |
| 傳輸裝置 | 磁力傳輸，可同時傳輸多片 |
| 進樣室 | 可選配獨立進樣室 |
| 校準裝置 | 光電傳感器 |
| 真空系統 | 機械泵+分子泵，可選離子泵等 |
控制系統 | PC+PLC 安全互鎖，碰撞保護,真空互鎖等 |
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