美Nano-master 兆聲晶圓清洗機SWC-3000

產品特點：

SWC-3000兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及Z先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了**的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

應用：

。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

。Ge， GaAs以及InP晶圓片清洗

。CMP處理后的晶圓片清洗

。晶圓框架上的切粒芯片清洗

。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

。帶保護膜的分劃版清洗

。掩模版空白部位或接觸部位清洗

。X射線及極紫外掩模版清洗

。光學鏡頭清洗

。ITO涂覆的顯示面板清洗

。兆聲輔助的剝離工藝

特點：

。臺式系統

。無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉甩干

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片

。微處理機自動控制

。IR紅外燈

選配項：

。掩模版或晶圓片夾具

。PVA軟毛刷清洗

?；瘜W試劑清洗(CDU)

。氮氣離子發生器