新型微聚焦單色化X射線(xiàn)源可實(shí)現(xiàn)以 5 μm 步長(zhǎng)的 10 μm 至 400 μm 的 X 射線(xiàn)光斑大小連續(xù)可調(diào)，從而確保將分析束斑調(diào)節(jié)至與目標(biāo)特征匹配。利用升級(jí)的X 射線(xiàn)源、高效的電子透鏡和優(yōu)化的檢測(cè)器，可實(shí)現(xiàn)**的靈敏度和高效的數(shù)據(jù)采集。

Nexsa G2 系統(tǒng)上的一鍵式自動(dòng)電荷補(bǔ)償系統(tǒng)可輕松實(shí)現(xiàn)絕緣樣品分析。**的雙束中和源避免絕緣樣品發(fā)生荷電，因?yàn)槭褂脴O低能量的電子，大多數(shù)情況下將無(wú)需進(jìn)行荷電校正。

Nexsa G2 系統(tǒng)配備有標(biāo)準(zhǔn)離子源或 MAGCIS（可選的單粒子和氣體團(tuán)簇復(fù)合型離子源) 進(jìn)行深度剖析。自動(dòng)離子源優(yōu)化和氣路控制可確保**的性能和實(shí)驗(yàn)重現(xiàn)性。

使用 Nexsa G2 系統(tǒng)，所有技術(shù)將觸手可及，一套系統(tǒng)全面分析您的樣品。標(biāo)準(zhǔn)配置具備高性能 XPS 所需的所有功能，ISS、UPS、REELS、拉曼等多種分析技術(shù)集于一身。升級(jí)選項(xiàng)可將系統(tǒng)轉(zhuǎn)換為完整的分析工作站，有助于解決材料分析問(wèn)題，提高生產(chǎn)效率。

Nexsa G2增加了多種樣品臺(tái)可選，以滿(mǎn)足科研的特殊應(yīng)用需求。特殊可選樣品臺(tái)有：NX 加熱臺(tái)，用于原位的樣品加熱分析；多觸點(diǎn)偏壓樣品臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)樣品在真空系統(tǒng)中的施加電壓，偏壓或循環(huán)電極后的XPS原位分析；惰性氣體轉(zhuǎn)移腔，可實(shí)現(xiàn)空氣敏感樣品的真空/惰性氣體保護(hù)轉(zhuǎn)移；MCA樣品臺(tái)，用于XPS+SEM的關(guān)聯(lián)分析，實(shí)現(xiàn)XPS技術(shù)和電子顯微技術(shù)對(duì)樣品的同一個(gè)分析區(qū)域采集數(shù)據(jù)，并進(jìn)行比對(duì)分析。