一、主要特點(diǎn)

1、該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻;

2、可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間;

3、該款設(shè)備是全自動Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)(PECVD)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)低壓條件下的實(shí)驗(yàn)，針對低溫石墨烯、碳納米管生長等。PECVD系統(tǒng)能使整個實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現(xiàn)象;

4、本款設(shè)備可以做金屬復(fù)合石墨烯材料，是目前**端的金屬復(fù)合材料制備設(shè)備。

二、技術(shù)參數(shù)