化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD）是應用氣態物質在固體上產生化學反應和傳輸反應等并產生固態沉積物的一種工藝。安徽貝意克多年來堅持在技術和產品方面持續創新，最新研發BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續進出料CVD設備，為您提供了一種全新的解決方案，告別低效燒制，貝意克助您邁向連續進出料CVD時代！

高效率：設備在使用過程中，可以在加熱爐不停止加熱的情況下，連續進料、出料；與常規加熱設備相比，省去了因加熱爐升溫、降溫過程中等待的時間，極大的提高了設備的使用效率。

操作便捷：左右進出料采用智能推拉機構，可實現真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或將載具拉離高溫爐，操作更方便。

安全、低能耗：設備表面溫度＜60℃，有效保護科研人員和材料；省去多次升溫頻率，能耗低節能更環保，適合工業化生產。

貝意克智能型連續進出料CVD設備包含主要由七大部分，進料腔，大口徑管式爐、出料腔、推拉機構、供氣系統、真空系統、以及自動化控制軟件組成。廣泛應用于納米材料、半導體、金屬材料、特種陶瓷等新材料研發。

BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型連續進出料CVD設備

特征

進/出料腔

我們設備的左側進料腔和右側的進料腔均配有一個16mm的推料桿，可以實現真空或惰性氣體保護下推送載具進入高溫爐內；進料腔右側法蘭通過氣動插板閥與高溫爐鏈接和隔斷，可以實現進料腔和高溫管式爐相互獨立工作，互不干擾。

高溫生長爐

該設備是大口徑管式爐采用優質電阻絲加熱，最高使用溫度可達1100℃，加熱區長度為150+300+150mm，采用3段控溫且每段上下兩點控溫的方式，可有效提高溫差均勻性；同時系統設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能，大大降低了對操作人員經驗的要求。

智能推拉機構

進料腔左側密封法蘭上配有推料桿及軌道；出料腔右側密封法蘭上配有拉料桿及軌道；可以實現真空或惰性氣體保護下將載具推送進高溫爐或將載具拉離高溫爐，智能推拉機構，操作更為便捷。

三路供氣系統可自由調節流速可混氣

該設備包含3部分供氣系統，進料腔配備1路質量流量計惰性氣體供氣裝置，高溫生長爐配備1路質量流量計惰性氣體混氣裝置，出料腔配備1路質量流量計惰性氣體供氣裝置；共計5路質量流量計。（可按客戶需求定制真空系統）

三套真空系統 按客戶需求定制

該設備的進料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16），高溫生長爐1套機械泵（機械泵抽速24m3/h、型號DRV-24），出料腔配備1套機械泵（機械泵抽速16m3/h、型號DRV-16）。

彩色觸摸屏數字控制系統

采用觸摸屏自動控制，參數設置和操作直觀方便，可進行溫度、時間等參數快速設定；參數自動記錄保持，一鍵操作。具有人性化，直觀化，集成度高，控制工藝成熟，系統穩定可靠，性價比高等優點。

一站式服務規劃

量身打造的解決方案，個性化的建議

想要根據用戶的需求定制合適的產品，就要考慮到各種不同因素。我們為用戶提供全面支持，從產品下單到交付到售后運維的設備全生命周期內服務，我們擁有業界領先的技術，始終如一的產品質量；全面的客戶服務，經驗豐富且專業的銷售和技術支持團隊；現場支持能力，貝意克銷售就在客戶身邊，隨時為客戶提供服務。

設備參數 

可按客戶需求定制