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【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測量專題網絡研討會

【10.14主題日】微觀丈量,“膜”力無限 —— 薄膜測量專題網絡研討會
馬爾文帕納科  2022-10-14  |  閱讀:1361

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薄膜測量主題網絡研討會

薄膜通常是指形成于基底之上厚度在一微米或幾微米以下的固態材料。隨著沉積工藝的進步,薄膜材料的的功能性不斷被開發利用,越來越多的應用于不同的工業領域,譬如半導體、光學器件、汽車、新能源等諸多行業。

沉積工藝決定了薄膜的成分和結構,最終影響薄膜的物理性能。馬爾文帕納科的X射線分析儀器可以對不同類型的薄膜材料進行表征,幫助客戶獲取薄膜成分、厚度、微結構、取向等關鍵信息,幫助研究者優化或控制工藝參數,以改善薄膜材料的性能。

10月14日(周五),馬爾文帕納科將與儀器信息網聯合推出主題為“微觀丈量,‘膜’力無限——X射線分析技術應用于薄膜測量”的專題網絡研討會。活動將特邀同濟大學物理科學與工程學院朱京濤教授,馬爾文帕納科亞太區半導體行業經理鐘明光先生,以及馬爾文帕納科XRD產品經理王林博士,XRF產品經理熊佳星先生做薄膜測量應用的相關報告,內容涉及多晶薄膜反射、織構、應力;半導體薄膜測量以及涂層、鍍層等金屬薄膜的成分及結構鑒定。還將安排幾款用于薄膜測量的X射線分析儀器的視頻演示。期待與涉及薄膜測量方向的廣大科研工作者和企業研發、質控專業人員共同探討薄膜測量領域X射線分析技術的發展及應用。

活動日程

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朱京濤 博士,教授,博士生導師,畢業于復旦大學物理系,主要從事微納光學、薄膜光學與技術研究。作為項目負責人,已完成國家自然科學基金重點項目1項,面上項目6項,國際合作交流項目1項,重大專項1項,軍口重大專項5項,軍口配套課題十余項,在國際刊物上共發表學術論文140余篇,國際學術會議邀請報告6次。獲得上海市技術發明二等獎和軍隊科技進步三等獎各一項。為我國重大科學裝置研制極紫外、軟X射線與X射線波段納米薄膜器件,并實現進口替代和產業化。

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王  林博士,馬爾文帕納科中國區XRD產品經理。2004年畢業于清華大學物理系獲學士學位,2011年于澳大利亞University of Wollongong伍倫貢大學獲得博士學位,博士期間研究方向為超導薄膜材料。畢業后即加入帕納科公司,從事XRD應用研究及技術支持等工作。

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鐘明光先生,馬爾文帕納科亞太區半導體行業經理,北維吉尼亞大學工程碩士,曾任臺灣明志科技大學及臺灣東海大學 X-Ray專題講師。在馬爾文帕納科任職超過20年,一直從事半導體行業分析設備的應用與研究,發表多篇 X-Ray 應用于SiGe材料的分析技術文章,精通X射線衍射及X射線熒光在第一代、第二代及第三代半導體材料領域的分析技術。

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熊佳星先生,馬爾文帕納科中國區XRF產品經理。2010年畢業于中國科學技術大學,化學物理專業碩士;2012年加入荷蘭帕納科公司,負責其在中國XRF產品的應用開發及支持工作,后擔任產品經理,負責XRF產品線。

薄膜測量相關產品介紹

高分辨 X 射線衍射儀

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X'Pert3 MRD/XL


馬爾文帕納科新一代X'Pert3 MRD(XL)高分辨X射線衍射儀,專為薄膜分析打造,具有全新編碼定位技術測角儀,PreFIX預校準光路系統,適用高負載條件的歐拉環樣品臺,允許裝載200mm-300mm的晶圓,PIXcel3D探測器實現高動態范圍的測量,靈活切換0D-1D-2D靜態及掃描模式。性能的改進大大增強其可靠性,進一步提高了分析能力。可提供一體化解決方案來滿足不同需求和應用:

半導體和單晶晶圓:倒易空間探索、搖擺曲線分析

多晶固體和薄膜:織構分析、反射測量

超薄薄膜、納米材料和非晶層:掠入射物相鑒定、面內衍射

非常溫條件下的測量:隨溫度和時間變化的峰高

多功能 X 射線衍射系統

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Empyrean 銳影

Empyrean銳影多功能X射線衍射系統具有在一臺儀器上測量多種類樣品的能力,無論是粉末、薄膜還是納米材料與固體物質。作為馬爾文帕納科第三代Empyrean銳影,具有智能“MaltiCore”多核光路系統,無需人工干預即可實現多種類的不同測量。外延薄膜分析中,Empyrean銳影可以放置最大140mm的晶圓,對2英寸的晶圓和晶圓碎片進行完整XY Mapping。在薄膜分析領域的應用還包括:

物相鑒定(和深度剖析)

X射線反射

薄膜應力分析

織構分析

In-plane衍射

外延層分析

倒易空間Mapping

非常溫環境條件下測量

多功能臺式XRD

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Aeris 

Aeris臺式X射線衍射儀具有大功率系統上才能實現的數據質量和數據采集速度。外置進樣系統,易于使用,方便環保。無需外置水冷、占地面積小,節約實驗室空間。新一代Aeris,還可配置掠入射薄膜分析功能模塊。

圓晶分析儀

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2830ZT 

2830ZT波長色散X射線熒光圓晶分析儀提供了用于測量薄膜厚度和成分的功能。針對半導體和數據存儲行業而設計,專門配備了具有突破性的ZETA技術X射線管,和多層膜分析軟件FP Multi,FALMO-2G可集成到任意實驗室或晶圓廠,該儀器可為多種晶片(厚達300mm)測定層結構、厚度、摻雜都和表面均勻性。

波長色散X射線熒光光譜儀

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Zetium X射線熒光光譜儀


Zetium光譜儀金屬專業版提供了一個完整的專用工具,可用于分析金屬制造所需的原材料以及特定的金屬解決方案,滿足過程控制的苛刻分析要求。這是通過提供專用解決方案,融合優化硬件、內置專業知識模板實現的,并可根據要求定制。軟件中可添加Stratos涂層分析軟件,完成對涂層、表面層的多層結構進行快速、簡單和非破壞性的分析。

臺式能量色散X射線熒光光譜儀

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Epsilon 4 

Epsilon 4臺式XRF分析儀,廣泛用于從研發到流程控制等各個領域中需要從氟(F)到镅(Am)元素分析的行業細分市場。Epsilon4將激發和檢測技術與成熟軟件和智能設計相結合,其分析性能更接近于功率更高的落地式XRF光譜儀。

Malvern Panalytical

Malvern Panalytical ,馬爾文帕納科的使命是通過對材料進行化學、物理和結構分析,打造出客戶導向型創新解決方案和服務,從而提高效率和產生切實的經濟影響。通過利用包括人工智能和預測分析在內的最近技術發展,我們能夠逐步實現這一目標。這將讓各個行業和組織的科學家和工程師可解決一系列難題,如最大程度地提高生產率、開發更高質量的產品及幫助產品更快速地上市。

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