中國粉體網訊 高純氧化鋁粉體具有普通氧化鋁無法比擬的光、電、磁、熱和機械性能，是配套航天航空、半導體、核能、新能源、冶金、生物醫療、照明、機械、化工等眾多工程領域的重要新材料，是現代化工附加值最高、應用最廣泛的高端材料之一。在此背景下，中國粉體網將在中國·重慶舉辦2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會，大會旨在搭建高純氧化鋁上下游技術交流、信息互通的溝通平臺，促進我國高純氧化鋁行業技術與產業發展突破。
從2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術及應用交流大會組委會獲悉，本屆會議將于2025年9月19日在中國重慶舉辦。上海敦祥工貿有限公司作為參展單位邀請您共同出席。
作為最常見的氧化物材料之一，氧化鋁具備多種優良性能，包括良好的機械性能、熱性能、結構多樣性等，使其在陶瓷、耐火材料、研磨拋光、導熱填料等諸多領域中有著不錯的應用性和前景。不過在實際的工業生產中，即使同為氧化鋁粉體，不同的生產廠家、不同的生產工藝及不同的生產設備所生產出的產品，其物理、化學性能指標也不盡相同，甚至會有較大差別。
氧化鋁應用
以氧化鋁陶瓷制品的生產為例，制備高分散性、高穩定性和高固含量的超細氧化鋁粉體漿料關乎著產品的加工性能甚至是使用性能，是獲得高質量坯體的關鍵，而氧化鋁粉體的粒度大小、分布以及分散穩定性又會對漿料的質量產生較大影響。若氧化鋁粉體的粒徑越小，則表面積與表面能則較高，能夠為陶瓷的致密化提供更大的驅動力，從而提高成品的致密度；但在另一方面，粉體的粒徑越小，粉體顆粒在溶劑中的分散穩定性就越差，越容易發生團聚或沉降，往往需要采用更多的分散劑、粘結劑等添加劑包覆在顆粒表面，不僅會使漿料流動性變差，影響后續排膠過程，還會導致陶瓷燒結收縮率增加，燒結體密度減小。由此可見，在氧化鋁粉末制品研發中，對氧化鋁粉末的粒徑及其分布和在液體中的分散穩定性（Zeta電位）等重要指標做出正確表征，并把握二者平衡至關重要。
為更好地指導粉體研發人員進行精確的顆粒檢測，提高產品性能和質量管理，大塚電子（蘇州）有限公司推出的ELSENEO系列ZETA電位·粒徑測試系統采用了目前學術界和產業界公認的成熟可靠的粒度檢測技術——動態光散射（DLS）技術，并使用高靈敏度的 APD雪崩光電二極管，通過觀測散射光隨時間的波動性得到顆粒布朗運動的速度，能夠連續、精確地從稀薄到濃厚溶液(~40% )中獲得顆粒的粒度和粒度分布，可測粒度范圍廣至0.1 ~ 10,000nm。
ZETA電位·粒徑測試系統·ELSENEOSE
動態光散射法技術原理
而通過采用電泳光散射法，并結合電滲透測量和繪圖分析，ELSENEO系列不僅能夠將顆粒的電泳速度測量問題轉化為散射光頻移測量問題，精確測定溶液的Zeta電位，用于粉體的分散穩定性的表征，還可以用于確認測量數據內ZETA電位分布的再現性及判定雜質的波峰，在測量速度、統計精度和重現性方面都具有突出優勢。
電泳光散射法測定原理
充分考慮電滲流后進行樣品池內泳動速度的解析
電滲透流應用于多成分（雜質）解析
即將于4月23-25日在寧波舉辦的“2024年全國氧化鋁粉體與制品創新發展論壇(第八屆)”上，上海敦祥工貿有限公司作為本次會議贊助商及大塚電子的代理商，邀請了大塚電子（蘇州）有限公司的技術統括橋田紳乃介先生現場分享報告《氧化鋁粉末制品研發和品控中的粒徑·ζ電位測定》，屆時他將結合詳細的事例深入介紹并在展臺展出ELSENEO系列ZETA電位·粒徑測試系統。如您對該報告及技術感興趣，了解會議詳情并報名，到會議現場及展臺與大塚電子進行面對面交流吧！
報告人介紹
橋田紳乃介，碩士畢業于日本兵庫縣立大學研究生院研究分析化學專業。2010年開始在大塚電子株式會社測量分析設備開發部門從事基于激光的納米粒子評價設備的分析業務和應用實例制作業務。負責編寫介紹動態光散射法和電泳光散射法測定原理和應用實例的技術書籍，每年舉辦技術研討會。
關于大塚電子
作為世界500強企業之一的大冢集團，其旗下日本大塚電子集團的子公司大塚電子（蘇州）有限公司以“多樣性”、“創新性”和“全球化”作為基本方針，并融合了自公司成立以來積累的核心技術，為用于光學特性測試的測量儀器、分析儀器提供從銷售到售后的全面服務支持，包括偏光片測試儀、位相差測試儀、液晶Cellgap測試儀、ColorFilter色度機、膜厚測試儀、透過率測試儀、反射率測試儀、納米粒度儀等，可以滿足納米技術、高分子化學、新材料、食品、半導體和醫藥等諸多領域從研發到質量管理各方面的需求，擁有精度高、測試快、操作簡便、市場占有率高、客戶群體廣的特點及優勢。
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