中國粉體網訊 當前碳化硅單晶的制備方法主要有:物理氣相傳輸法(PVT)、頂部籽晶溶液生長法(TSSG)、高溫化學氣相沉積法(HT-CVD)。其中,PVT法具有設備簡單,操作容易控制,設備價格以及運行成本低等優點,成為工業生產[更多]
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