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推薦原子層沉積技術在金屬粉體領域的應用

中國粉體網訊 原子層沉積（Atomic Layer deposition, ALD）技術是化學氣相沉積法（CVD）的一種，最初是由芬蘭科學家提出并用于多晶熒光材料ZnS、Mn以及非晶 Al2O3絕緣膜的研制，這些材料用于平板[更多]