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【原創】產業協同,共謀突破!2025第二屆高端研磨拋光材料技術大會成功召開


來源:中國粉體網   山川

[導讀]  第二屆高端研磨拋光材料技術大會成功召開!

中國粉體網訊 2025年4月16日,由中國粉體網主辦的“2025第二屆高端研磨拋光材料技術大會”在河南鄭州天地麗笙酒店成功召開!本屆大會匯聚了500余名產業鏈各個環節的專家學者、技術人員、企業界代表,圍繞高端研磨拋光材料與技術、研磨拋光裝備及應用等進行了探討交流,共同展望了行業未來發展。



©Charlie Cao/Cnpowder.com.cn

會議現場


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中國粉體網會展事業部總經理孔德宇先生主持開幕式


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上海大學施利毅教授主持大會報告環節(上午)


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華僑大學制造工程研究院陸靜教授主持大會報告環節(下午)


本屆大會,河南工業大學栗正新教授、大連理工大學高尚教授、華僑大學陸靜教授、上海大學施利毅教授、河北工業大學副研究員何彥剛等16位業內專家學者、技術大咖應邀蒞臨大會現場并作了精彩的演講報告。


大會精彩報告


栗正新教授對磨料磨具行業的發展現狀做了簡單介紹,隨后對結合劑、磨具成型技術、第四相(填料)等方面對磨料磨具技術發展趨勢做了詳盡介紹。


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河南工業大學栗正新教授作《磨料磨具技術發展現狀與趨勢》報告


高尚教授在報告中針對傳統金剛石砂輪減薄磨削晶圓時超硬磨粒純機械作用導致的表面/亞表面損傷問題,提出了一種采用軟磨料彈性砂輪、通過機械化學復合作用實現晶圓超低損傷減薄加工的新工藝,介紹了機械化學復合作用下晶圓超低損傷磨削表面的形成機理,并開發了高效超低損傷減薄晶圓的軟磨料彈性砂輪及其加工工藝。


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大連理工大學高尚教授作《面向晶圓減薄加工的軟磨料彈性砂輪超低損傷磨拋新工藝》報告


王向華首先提到了CMP拋光材料SEM表征的必要性,隨后對蔡司公司掃描電鏡的三大技術特色及應用優勢做了詳細介紹。


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卡爾蔡司(上海)管理有限公司資深應用專家王向華作《蔡司電鏡在研磨拋光材料中的應用》報告


鐘榮峰經理針對硅溶膠的制備方法及生長機理、硅溶膠的性能指標對拋光的影響以及在CMP中的應用優勢與痛點做了詳盡的分析。


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廣東惠爾特納米科技有限公司研發經理鐘榮峰作《新型納米二氧化硅磨料在CMP中的應用》報告


在研磨拋光環節,磨料的粒度及形貌對拋光效果有十分重要的影響。任旭經理重點介紹了研磨拋光材料中磨料粒度/粒形檢測方法及影響因素。


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丹東百特儀器有限公司銷售經理任旭作《研磨拋光材料粒度/粒形檢測方法及影響因素》報告


劉添彪總經理(張佳慧代)強調了金剛石量子是潛在的超光滑拋光材料,隨后對相關產品的制備及難點進行了闡述,并對公司、經營計劃,研發實力及取得的研究成果做了詳細介紹。


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蘇州極鉆納米科技有限公司劉添彪總經理(張佳慧代)作《超納金剛石光罩精拋液材料與算法研發產業化》報告


施利毅教授介紹了精準調控納米a-氧化鋁、納米氧化硅、納米氧化鋯、納米氧化鈰等納米磨料的關鍵技術及技術難點,并對其課題組在相關領域取得的進展做了闡述。


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上海大學施利毅教授作《精準調控納米粉體制備技術開發》報告


磨粒在拋光過程中與工件和磨具直接接觸,在工件表面起到微量去除的作用,磨粒的選擇是否正確將直接關系到材料的去除效果。何彥剛副研究員針對集成電路化學機械平坦化工藝對氧化硅、氧化鈰、氧化鋁等“納米磨料”的具體要求展開了詳細介紹。


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河北工業大學/微電子技術與材料研究所何彥剛副研究員作《納米磨料在集成電路化學機械平坦化過程中的應用》報告


以二氧化鈰為核心的稀土拋光磨料因硬度適中、反應活性高、選擇性高而表現出具有更高的切削速度、拋光精度和表面光潔度,在半導體、光學元件、液晶顯示屏等高端制造領域不可替代。隨著應用需求的升級,相匹配的稀土拋光材料正向高端化發展。高級工程師李曉佩分享了鈰基稀土拋光材料設計合成以及拋光性能調控等重要知識。


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包頭稀土研究院高級工程師李曉佩作《鈰基稀土拋光材料設計合成及拋光性能調控》報告


尹學彬經理則對新型生物基3D纖維素凝膠在研磨拋光領域的應用做了詳細闡述,使我們了解到:新型生物基 3D纖維素凝膠以其獨特的空間網狀結構,擁有高比表面積及空間位阻,兼具微米及納米結構的性能,可有效承托并包覆研磨顆粒,形成可靠的空間穩定結構,防止沉降、團聚及板結。另外,研磨顆粒吸附在3D纖維素凝膠表面,可提高參與研磨的有效顆粒的數量,從而提升拋光效率。


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北京格林微納科技有限公司研發經理尹學彬作《新型生物基3D纖維素凝膠在研磨拋光領域的應用》報告


陸靜教授提出了一種CuO預處理輔助金屬砂輪磨削結合紫外光芬頓復合體系拋光的新技術,通過CuO預處理,顯著提升了金屬砂輪對多晶金剛石表面的磨削效率,有效解決了傳統磨削方法中加工效率與表面質量難以兼顧的瓶頸問題。進一步結合紫外光芬頓復合體系拋光技術,利用紫外光催化作用及芬頓反應生成的強氧化性羥基自由基,實現了多晶金剛石表面的高效化學機械拋光。該復合體系顯著降低了表面粗糙度,最終實現了磨拋一體化加工,為多晶金剛石晶圓的超精密加工提供了一種高效的新技術路線。


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華僑大學制造工程研究院陸靜教授作《多晶金剛石晶圓磨拋加工技術研究進展》報告


針對金剛石研磨墊市場需求,趙明恩綜述了金剛石研磨墊精密成型方法,分享了國內外主流金剛石研磨墊產品在多應用場景下的加工性能,對金剛石研磨墊的應用領域拓展起到良好的指導作用。


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鄭州磨料磨具磨削研究所有限公司工程師趙明恩作《金剛石研磨墊應用研究》報告


超細金剛石憑借其10級莫氏硬度、優異的耐磨性及化學穩定性,成為突破第三代半導體材料加工瓶頸的關鍵。秦景霞(肖驥代)在報告中展示了E6憑借70余年的合成金剛石研發經驗推出的突破性的 MicronTM UFD™ 超細金剛石解決方案,可持續推動半導體制造工藝革新。


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元素六亞洲戰略業務總監秦景霞(肖驥代)作《Element Six(E6) 超細金剛石材料助力半導體精密加工升級》報告


熊玉朋副教授圍繞大尺寸單晶氮化鋁的加工難題,介紹了基于化學機械拋光的大尺寸氮化鋁晶圓表面超精密加工的創新解決方案。


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國防科技大學智能科學學院熊玉朋副教授作《大尺寸氮化鋁晶圓表面超精密加工技術》報告


氧化鋁拋光液具備較高的研磨拋光效率從而備受關注,紀發明副總經理詳細介紹了氧化鋁拋光液的制備工藝,并分享了不同的應用案例。


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無錫云嶺半導體有限公司副總經理紀發明作《半導體材料拋光用氧化鋁拋光液的制備和應用》報告


陳瑋教授在報告中指出,采用多元醇及有機酸為基礎承載物,添加穩定劑、分散劑、賦形劑等不同功能性添加劑,通過納米乳化技術,制備出用途廣泛的水性拋光膏母液,在這種母液中,添加金剛石、片狀氧化鋁、類球形氧化鋁等磨料顆粒,可以制備出適合于氧化鋁陶瓷、氮化硅陶瓷、不銹鋼等材料精細拋光的拋光液。這種方法制備的水性拋光液具有用途廣泛、適應性強、制備方法簡單實用等優點。


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新鄉學院陳瑋教授作《水性拋光膏的制備與應用》報告


展覽現場精彩瞬間


大會期間,高端研磨拋光行業的三十余家企業展示了各自的先進產品,參會嘉賓參觀了企業展臺,并與企業精英、專家進行了面對面地交流。




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展示區人頭攢動



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與會代表參觀企業展臺



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與會代表面對面交流


答謝晚宴


4月16日晚,中國粉體網舉辦了答謝晚宴,大家匯聚一堂,共同欣賞了精彩的文藝表演并積極參與了抽獎互動節目。現場高朋滿座,歡聲笑語。


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中國粉體網會展事業部總經理孔德宇晚宴致辭



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文藝表演



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獲獎嘉賓合影


研磨拋光材料是半導體制程中萬不可缺的關鍵材料,但該市場國產化率仍然不高,整個行業正面臨著極為緊迫的國產替代任務。本屆大會通過匯聚產業鏈各環節的專家、技術人員、企業家,促進交流與合作,激發行業活力,對推動行業在高端研磨拋光產品進口替代上取得全面突破具有積極的意義。


(中國粉體網鄭州報道/山川)




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作者:山川

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