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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設備品牌
杭州晶馳產(chǎn)地
浙江樣本
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設備采用雙工位設計,全封閉工作臺和強排風系統(tǒng)有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害。該系統(tǒng)集SiC晶片熱強堿腐蝕、快速清洗,再次超聲清洗和晶片烘干為一體,充分避免了操作人員與腐蝕性強堿溶劑的接觸。整個工藝流程全部自動化控制,操作人員只需完成取放片操作,腐蝕效率高,適合產(chǎn)業(yè)化應用。
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