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拉普拉斯低壓水平氧化退火設(shè)備 LOX430品牌
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設(shè)備的應(yīng)用及特點(diǎn)：
應(yīng)用
本設(shè)備適合156-210mm硅片生產(chǎn)，能幫助客戶降低固定資產(chǎn)投入和運(yùn)營成本。
產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 水平放片，管內(nèi)空間利用率高，不僅能耗低，且具有業(yè)內(nèi)**的產(chǎn)能；
2. 硅片方向與氣流方向一致，硅片對氣流阻擋小，片內(nèi)/片間均勻性更優(yōu)；
3. 自重擠壓，減少硅片間間隙，繞擴(kuò)/繞鍍可控；
暫無數(shù)據(jù)！
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