Semiconsoft MProbe Vis膜厚測(cè)試儀

讓你成為測(cè)量專家 ！

大部分半透明的或具有輕微吸收性的薄膜能夠被快速、可靠的測(cè)量：氧化物、氮化物、感光耐蝕膜、聚合物、半導(dǎo)體(Si， aSi，polySi)、硬涂層(SiC， DLC)， 聚合物涂料 (Paralene，PMMA，聚酰胺)，薄金屬薄膜等。

MProbe系統(tǒng)

厚度范圍: 15 nm-50 um

波長范圍: 400nm -1100 nm

LCD， FPD應(yīng)用: ITO， 細(xì)胞間隙，聚酰胺。光學(xué)涂層: 介質(zhì)濾波器，硬涂層，防反射涂層半導(dǎo)體和電解質(zhì): 氧化物，氮化物， OLED堆

實(shí)時(shí)測(cè)量和分析。各種多層次的， 薄的，厚的，獨(dú)立和不均勻?qū)印?/span>

豐富的材料庫 (500多種材料) – 新材料容易增添。Cauchy， Tauc-Lorentz， Cody-Lorentz， EMA 等

使用靈活: 可聯(lián)網(wǎng)在操作臺(tái)桌面或現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行研究與開發(fā)。

用TCP或Modbus接口能容易的和外部系統(tǒng)連接。

測(cè)量參數(shù)：厚度、光學(xué)常數(shù)、表面粗糙度。

界面友好強(qiáng)大: 測(cè)量和分析設(shè)置簡單。

實(shí)用的工具：仿真和靈敏度分析，背景和縮放修正，連接層和材料，多樣品測(cè)量，動(dòng)態(tài)測(cè)量和生產(chǎn)批量處理。

測(cè)量300 nm 硅氧化膜 測(cè)量與模型數(shù)據(jù)擬合

主要參數(shù)

從硅晶片原反射比。信號(hào)**（16位）。

積分時(shí)間：10ms

測(cè)量500nm AlN. 測(cè)量參數(shù)：厚度和表面粗糙度。 換算系數(shù)應(yīng)用到正確的距離以改變配置。