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日本Nikon 6英寸分步重復光刻機NSR 1755i7B
技術指標及功能
把掩膜版上的圖形按照一定的比例縮小復制到涂布有光刻膠的晶圓上，分區域進行步進式曝光。本機臺可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圓高精度投影曝光，曝光精度可達500nm。
基本指標
1. RESOLUTION：0.5μm
2. LENS DISTORTION：≤0.9μm
3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY：≤0.02μm
4. STEPPING ACCURACY：≤0.08μm
5. OVERLAY ACCURACY：≤0.15μm(X，Y)
6. OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA)：17.5×17.5mm
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