總部位于德國柏林科技園區(qū)的SENTECH儀器公司，已成為光伏生產(chǎn)設(shè)備世界市場之 一.我們是一家快速發(fā)展的中型公司，擁有60多名員工，他們是我們有價值的資產(chǎn)我們団 隊的每個成員都為公司的成功做出貢獻，我們總是在尋找與我們志同道合的新工作伙伴，我 們誠摯期待您的加入。

等離子刻蝕設(shè)備

ICP-RIE等離子刻蝕機SI500

產(chǎn)品介紹

高端等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子； 能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻: 蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。

通過在廣泛的溫度: 范圍內(nèi)的動態(tài)溫度控制確保了可重復(fù)且穩(wěn)定的等離子刻蝕條件。深反應(yīng)等離子；

刻蝕（硅，III-V族半導(dǎo)體，MEMS）可: 采用低溫工藝和室溫下的氣體切換工藝: 來實現(xiàn)。

特點

*低損傷刻蝕 ?高速刻蝕

*自主研發(fā)的ICP等離子源

*動態(tài)溫度控制

RIE等離子刻蝕機Etchlab 200

產(chǎn)品介紹：

經(jīng)濟型等離子刻蝕設(shè)備EtchLab 200具備 低成本效益高的特點，并且支持揭蓋直接 放置樣片。

EtchLab 200允許通過載片 器，實現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載，也可 以直接快速地把樣品裝載

在電極上。RIE等離子體刻蝕設(shè)備具備占地面積小， 模塊化和靈活性等設(shè)計特點.

特點

*低成本效益高

*升級擴展性

*SENTECH控制軟件

RIE等離子刻蝕機SI 591

產(chǎn)品介紹

SI 591特別適用于采用氟基和氣基 :氣體的工藝，可以通過預(yù)真空室和電 :腦控制的等離子

工藝系統(tǒng)實現(xiàn)。SI 591的特點是占地空間小，高度靈活性，

例如，SI 591可作為單一反應(yīng)腔系統(tǒng)集成在多腔系統(tǒng)中。

特點

工藝靈活性

*占地面積小且模塊化程度高

*SENTECH控制軟件