技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)指標：

坩堝大小:1cc；2cc，（其它體積定制）

可實現(xiàn)的金屬層厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm

通常（**）沉積速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm

加熱系統(tǒng):帶坩堝的陶瓷容器

選項：標準金屬容器（可替換）

溫度范圍:300°C ~ 1700°C

電源要求:電壓 < 10 V (typ. 9 V)；電流 < 200 A (typ. 110 A)；功率 up to 2 kW

冷卻水:approx. 15 l /min

選項：

• 陶瓷容器；金屬容器

• 可彎曲的金屬管用于冷卻系統(tǒng)，免工具操作

• 與有機物升華器的聯(lián)合裝配

主要特點：

微型金屬升華器專為實驗室研究或微小規(guī)模的制備而設(shè)計，可以裝配高真空或超高真空系統(tǒng)，主要用于沉積制備金屬層。

特殊設(shè)計的升華器核心構(gòu)成為傳導效率很高的陶瓷容器，同時包括一個嵌入的坩堝。兩種材料均能夠承受金屬的溶解過程。坩堝的材料可以所所升華金屬的不同而選擇。