Murano 加熱臺，型號 525

        許多冶金與材料科學研究都能從直接觀察樣品在 SEM 內的加熱實驗中獲益。新型 Murano 加熱臺能夠使我們動態地觀察樣品在加熱過程中的相變、再結晶、晶粒生長與氧化現象。

圖1. 配有　EBSD、FIB 和SED 的 SEM 艙室。  

        該加熱臺經精心設計，能方便地與大多數掃描電鏡的標準樣品臺接口，它包含一個絕熱接口，適用于二次電子成像、電子背散射衍射 (EBSD) 與聚焦離子束 (FIB) 加工。

        樣品臺的溫度范圍涵蓋室溫到 950 °C。要進行催化、還原或氧化反應，可選配一個毗鄰樣品的毛細管，進行氣體注入。通過毛細管的外部氣體流量用法蘭上的針閥來控制。

       水冷底座與屏蔽用來保護 SEM 的內部艙室及其周圍的探測器。每套系統都配有一個與安全流量開關互鎖的低振動熱交換器，以及電源和基于 PC 的溫度控制器。

        接口法蘭上有一個積分偏壓控制，用于抑制加熱過程中熱電子的發射，同時促進二次電子的采集。從而獲得加熱條件下的性能。

        樣品加熱平臺是消耗材料，它是為方便樣品的裝載而精心設計的。記錄軟件允許記錄每一溫度下的時間戳。

        當與 DigiScan? 數字電子束控制與圖像處理系統一起使用時，Murano 加熱臺的溫度數據能夠“印記”在實驗圖像上和通過 Gatan In-situ 視頻軟件記錄的視頻上。

        Murano 加熱臺開辟了原位實驗的新方法，使我們用一個試樣在一次　SEM 實驗中就可以研究試樣加熱的全過程。它使我們能夠快速地表征試樣，而無須制備多個試樣，同時能保證要研究的感興趣區的連續性。

圖3，顯示從945°C到880°C 奧氏體向鐵素體轉變的 EBSD 相分布圖，奧氏體為藍色(暗)，鐵素體為紅色(亮)。測試僅用了一個低碳鋼試樣，加熱到945°C，然后以每分鐘 1°C 的速度冷卻，直到觀察到相變開始。一旦相變開始，保溫以觀察單個晶粒中相的變化過程，然后，再次冷卻。數據由Oxford Instruments 的 Singh Ubhi博士提供。