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| 二次電子圖象分辨率 | 1.0 nm @15 keV | 放大倍數 | 4-1,000,000 × |
| 背散射電子圖像分辨率 | 1.0 nm @15 keV | 加速電壓 | 0.2~30 kV |
| 產地屬性 | 歐洲 | 儀器種類 | 場發射 |
| 價格范圍 | 500萬-700萬 |
RISE 是一款新型的關聯使用顯微技術，結合了掃描電鏡和共聚焦拉曼成像。通過RISE可以同時獲得超微結構表面分析以及分子化合物的信息。
石墨烯樣品的 圖像。彩色共聚焦拉曼圖像。顏色顯示石墨烯層和褶皺。圖像參數：μ×μ，×150 像素=22500譜圖。采集時間：0.05s/譜圖。右側的是 SEM 圖像與共聚焦顯微鏡拉曼圖像疊加。
RISE將掃描電鏡和共聚焦拉曼光譜的特征集中在了一臺設備上： 可快速、方便的切換SEM和拉曼測量； 可自動移動不同測量位上的樣品； 友好的操作界面，集成度高； 測量結果可以與圖像疊加； 無論是掃描電鏡成像還是拉曼測量結果都不遜于兩者獨立工作的時候；
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