國產電子束光刻機實現自主可控，是實現我國集成電路產業鏈自主可控的重要一環。近日，澤攸科技聯合松山湖材料實驗室開展的全自主電子束光刻機整機的開發與產業化項目取得重大進展，成功研制出電子束光刻系統，實現了電子束光刻機整機的自主可控，標志著國產電子束光刻機研發與產業化邁出關鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進行曝光并通過顯影獲得圖形的過程。而產生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機。它是推動我們當前新材料、前沿物理研究、半導體、微電子、光子、量子研究領域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機市場高度集中，主要由美日企業壟斷，我國尚未掌握該領域核心技術，裝備長期依賴進口。

為實現電子束光刻機的自主可控，澤攸科技多年來持續積累電子光學、微納技術、高壓源及電子源技術、真空系統、自動控制、數字圖像處理等多學科交叉核心技術，構建了完整的技術體系，并推出了臺式掃描電鏡等多款電子束產品。2023年3月，澤攸科技聯合松山湖材料實驗室共同投資2400萬元，成立聯合工程中心，目標是打造集科研與產業化為一體的電子束裝備技術創新基地。通過深入開展電子束與新材料交叉領域的前沿技術研發，實現關鍵裝備和共性技術的自主可控，切實提升我國在電子束加工與制備領域的整體創新能力和產業競爭力。

目前，澤攸科技已基于自主研制的掃描電鏡主機，完成電子束光刻機工程樣機研制，并開展功能驗證工作。通過對測試樣片的曝光生產，可以繪制出高分辨率的復雜圖形，達到先進水平。該成果標志著澤攸科技在電子束光刻機關鍵技術和整機方面的自主創新能力獲得重大提升。下一步，澤攸科技將持續完善電子束光刻機的性能指標，使其達到批量應用及產業化的要求。

相信在公司技術團隊的不懈努力下，澤攸科技自主研發的電子束光刻機整機必將加速實現量產和商業化應用。這不僅將大幅降低國內芯片制造的裝備成本，還將打破國外企業的技術壁壘，使我國擁有自主可控的電子束光刻機技術，推動國產替代，切實保障國家信息安全。

以下是電子束光刻機部分應用案例：