介質研磨法介質研磨法是先將藥物與加有穩定劑的分散介質（例如氧化鋯珠）混勻，再一起放入介質研磨機的研磨室內，研磨機快速運轉，使藥物粒子與氧化鋯珠研磨介質、研磨室內壁、藥物粒子之間發生猛烈的碰撞，從而得到納米級別的藥物粒子。混合物中的小顆粒藥物粒子通過濾網進入再循環室，大顆粒和研磨介質則留在研磨室內。

在循環室內的藥物粒子一旦達到所需的納米級別就被取出，否則應繼續用氧化鋯珠研磨。研磨介質一般為高交聯聚苯乙烯樹脂、超致密陶瓷介質、玻璃珠  、氧化鋯珠或賽諾的氧化釔穩定的氧化鋯珠。研磨介質的尺寸及數量、研磨速度、研磨時間等因素大都會影響藥物粒子的粒徑  。

應用介質研磨法制備出平均粒徑為165nm的阿奇霉素納米粒子，研磨前后藥物的晶型和化學結構沒有明顯改變，納米晶的溶出速率明顯增大，在10min時，以十二烷基磺酸鈉（SDS）為表面活性劑的納米晶的累計溶出率可達到75％，是同一時間原料藥溶出量的7.5倍左右；在45min時納米晶可基本完全溶解，而同樣條件下原料藥平衡時的溶出總量僅為其21％左右。

采用介質研磨法制備尼莫地平納米混懸劑，粒徑為（261.2±5.7）nm，X射線粉末衍射和差示掃描量熱分析結果顯示納米凍干粉中藥物晶型狀態沒有改變，但與原料藥相比，納米凍干粉的飽和溶解度提高了近60倍。本法具有適用范圍廣、制備過程簡單、適用于工業生產、所制粒子粒徑分布窄、制備過程溫度可控等優點。缺點是在研磨過程中有可能混入一定量的研磨介質，用藥后，可能會產生嚴重的不良后果，所以該法不適用于制備注射用納米混懸劑，已上市的基于介質研磨法的納米晶藥物都是口服給藥。

在工業化大生產中，為了獲得平均粒徑小于200nm且分散均勻的分散體系，研磨時間一般為30～60min  。在現有的研磨介質中，賽諾氧化鋯珠在研磨的過程中造成的污染較小，而且在長期研磨的情況下，氧化鋯珠的損耗比較低，所以長期使用還可以節省不小的成本，尤其是在使用量比較大的情況下，效果更顯著。一般應根據藥物性質、球磨機的線速度及運行時間來選擇經濟有效的尺寸和規格。