MCPD series 薄膜在線測量設備是光學式測量系統，可以以非接觸和非破壞性的方式測量薄膜厚度、透過率、顏色等。

可測量的膜厚范圍為 65 nm 到 92 μm。（以折射率n=1.5換算）

采用分光干涉法測量原理，支持多層膜厚測量，同時實現高重復性精度。采用獨創的算法，可以高速實時監控，非常適合于薄膜在線測量。

特  點

● 膜厚測量范圍 65 nm ~ 92 μm（SiO2換算）

多點測量點切換對應系統

導軌測量系統

在導軌測量系統中，通過導軌機構驅動在TD方向掃描，以任意寬度和任意間距測量TD方向的膜厚分布。可以用作涂層的條件設置和運行時的實時監控。

通過導軌機構橫向移動進行多點測量，無需準備多個檢測器或數據處理單元。

真空環境下的多點反射 · 透過光譜測量

與各種法蘭兼容的耐真空光纖，可以在高真空下測量反射 · 透射光譜。此外，采用大塚電子獨創算法，不易受基膜上下移動的影響，高精度測量薄膜膜厚。可作為實時監控使用。

MCPD-9800

※膜厚值以n=1.5換算。并與式樣相關。

MCPD-6800

※膜厚值以n=1.5換算。并與式樣相關。