納米金剛石微粉研磨分散機，高剪切研磨分散機，高速研磨分散機，碳原子研磨分散機，德國進口研磨分散機，不銹鋼研磨分散機，分散機廠家

金剛石微粉是指顆粒度細于36/54微米的金剛石顆粒，有單晶金剛石微粉和聚晶金剛石微粉。單晶金剛石微粉是由人造金剛石單晶磨粒，經過粉碎、整形處理，采用特殊的工藝方法生產。金剛石微粉硬度高、耐磨性好，可廣泛用于切削、磨削、鉆探等。是研磨拋光硬質合金、陶瓷、寶石、光學玻璃等高硬度材料的理想原料。金剛石微粉制品是利用金剛石微粉加工制成的工具和構件。

納米金剛石微粉可應用于醫療中心細胞分離，細胞染色等方面

利用納米金剛石，發明一種對活細胞探測的顯微成像技術

將納米金剛石嵌入隱形眼鏡以輸送藥物，此來治療青光眼

納米金剛石可像金屬銀、銅一樣有效殺除細菌，可在短時間內殺死細菌

納米金剛石是超活性吸附劑，和生物活性物定位劑，可極大增強藥物的療效

金剛石微粉用途

　　金剛石微粉廣泛用于機械、航天、光學儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質、**工業部門，是研磨拋光硬質合金陶瓷、寶石、光學玻璃等高硬材料的理想材料。

　　金剛石微粉規格

　　金剛石微粉一般為0-0.5微米金剛石微粉至6-12微米金剛石微粉用于拋光；10-15微米至22-36微米用于研磨；12-22微米以粗者用于精磨。

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上海依肯**研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

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CMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點：

更穩定 采用優化設計理念，將先進的技術與創新的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，**程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用國際先進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

設備核心參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

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CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到**允許量的10%

研磨分散機的應用領域：

1、精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散

2、石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化

3、農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑

4、生物醫藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣

5、日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發用品、牙膏、日用香精

6、食品工業、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末

7、涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土

8、造紙工業、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化

9、環境保護、廢水、污水處理、改質、回收利用

10、     其它：造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉

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