中國(guó)粉體網(wǎng)訊 鈰基拋光粉被譽(yù)為“拋光粉之王”，具有拋光效率高、粒度均一、硬度適中、拋光質(zhì)量好等優(yōu)點(diǎn)，其拋光能力與氧化鈰的含量、自身物理化學(xué)性質(zhì)（粘度、活性）等密切相關(guān)。目前的研究表明采用納米氧化鈰作為CMP磨料，在拋光效率及效果上均優(yōu)于其他產(chǎn)品。
相對(duì)比其他磨料，氧化鈰一般不溶于堿，在堿性拋光條件下呈兩性性質(zhì)，能同時(shí)吸附陰、陽(yáng)離子，能夠與堿很好配合拋光。由于CeO2拋光液拋光效率高，一般可達(dá)到0.8～1.5μm/min，而且粒子懸浮性好，拋光后易清理，因此通用性很強(qiáng)，常用于精密光學(xué)元件、晶體和藍(lán)寶石等的精密拋光過(guò)程，同時(shí)還可用于多重?cái)U(kuò)散硅片（儲(chǔ)存器硬盤(pán)基片）的高精度拋光，還可用于擴(kuò)散片的拋光過(guò)程。
但當(dāng)前技術(shù)下，工業(yè)生產(chǎn)出的CeO2磨粒形貌不規(guī)則、粒度分布范圍大，使得拋光質(zhì)量不穩(wěn)定。值得注意的是，當(dāng)采用氧化鈰拋光粉作為磨料制備拋光液，分散懸浮穩(wěn)定性是重中之重，否則粒子較易團(tuán)聚，容易導(dǎo)致工件劃傷；同時(shí)由于懸浮清洗性能不好，拋光液磨料損耗快，容易粘附在工件及機(jī)臺(tái)表面，使磨料沉底結(jié)塊，研磨拋光效率降低；另外拋光后工件表面殘留拋光粉多，難以清洗，為后段正常生產(chǎn)帶來(lái)困難。
針對(duì)這些問(wèn)題，有研稀土圍繞CeO2拋光材料的可控制備開(kāi)展了系統(tǒng)研究。采用原位分析、跨尺度表征等多種手段，明確了CeO2的形核生長(zhǎng)機(jī)理，開(kāi)發(fā)出不同形貌、尺寸和表面特性的納米CeO2的合成方法和可控制備技術(shù)，揭示了CeO2物相、結(jié)構(gòu)與形貌的演變規(guī)律，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液，并在多家企業(yè)開(kāi)展應(yīng)用評(píng)價(jià)和小批量應(yīng)用，展示出優(yōu)異的應(yīng)用效果和應(yīng)用前景。
2024年7月9日，中國(guó)粉體網(wǎng)將在鄭州舉辦“2024高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì)”，屆時(shí)，有研稀土新材料股份有限公司高級(jí)研發(fā)主管王寧將帶來(lái)《納米鈰基拋光材料及其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用進(jìn)展》的報(bào)告，報(bào)告將介紹有研稀土在氧化鈰拋光液的相關(guān)研究，揭示了CeO2物相、結(jié)構(gòu)與形貌的演變規(guī)律，制備出系列易分散的納米氧化鈰粉體和拋光液。
（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/空青）
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