中國粉體網訊 據國家知識產權局公告，萬華化學集團股份有限公司（以上簡稱：萬華化學）申請一項名為“一種長時間高速率的鎢化學機械拋光液及其應用“，公開號CN117947422A。
專利摘要顯示，本發明公開了一種長時間高速率的鎢化學機械拋光液及其應用，所述鎢化學機械拋光液包含如下質量百分含量的組分：0.1%-5%研磨劑、0.5~5%的氧化劑、0.001％～0.05％的鎢催化劑、0.01%-0.05%的穩定劑、0.005%-0.05%的表面質量改善劑、0.001%-0.003%的氧化酶、余量為去離子水。本發明的鎢化學機械拋光液具有長時間高速率且表面質量好的特點。
隨著集成電路的不斷發展，加工精度的細微化和電路功能的復雜化，多層化、高性能的三維立體結構已成為布線的發展趨勢。在高電流密度下，金屬鎢抗電子遷移好，不形成小丘、應力低，而且能夠與硅形成很好的歐姆接觸，其作為多層布線中的接觸窗及介層洞的填充金屬材料，已經被廣泛接受。鎢拋光液主要用于制造存儲芯片，在邏輯芯片中只用于部分工藝段，在FAB廠鎢化學拋光液一般不會現配現用，通常會在tank桶里加入拋光液和氧化劑混合，然后再使用。一桶tank拋光液使用需要一周左右時間，而這么長的時間不可避免的會使雙氧水分解，而雙氧水的分解會導致雙氧水含量的降低，進一步使的氧化能力下降，致使拋光速率下降。
目前，FAB廠商為了提升產能，各大FAB廠家對鎢化學拋光液的要求是盡可能長時間具有穩定的高拋光速率，從而提升產量。但高拋光速率的前提下不可避免的會帶來表面質量較差的問題，因此如何獲得一款具有長時間高拋光速率且表面質量好的鎢化學拋光液是非常必要的。
本發明提供了一種長時間高速率、又表面質量好的鎢化學機械拋光液，通過添加一種氧化酶和表面質量改善劑，能保證鎢化學機械拋光液具有長時間高拋光速率且優異的表面質量。
在整個半導體行業及半導體材料的迅速增長的帶動下，全球化學機械拋光液呈現出快速增長態勢。早在2020年，萬華化學基于其本身在國內化工行業的領頭地位，在煙臺經濟技術開發區內布局大規模集成電路平坦化關鍵材料（拋光墊+拋光液）項目，建成后拋光液有望實現1.5-2萬噸/年產能。
萬華化學在IC半導體領域持續研發，全力攻關拋光材料、先進封裝材料、光刻膠三大核心材料，目前已成功自主開發了應用于高端拋光墊的聚氨酯，并可通過配方調控，提升產品性能；并且聚焦拋光液生產的全工藝流程提升，硅拋光液產品具有研磨速率優異、金屬污染低、表面粗糙度低及循環穩定性優異的特點。
來源：國家知識產權局、萬華化學、金融界
（中國粉體網編輯整理/空青）
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