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【原創】石英原料的雜質賦存狀態及去除方法研究


來源:中國粉體網   初末

[導讀]  石英中雜質元素的種類、含量、賦存形式將直接影響石英資源的品質和工業用途。

中國粉體網訊


【摘要】高純石英是一種戰略性資源,是光纖通訊、太陽能光伏、航空航天、電子及半導體等現代高新技術產業的重要原料,在國民經濟中占有十分重要的地位。石英中雜質元素的種類、含量、賦存形式將直接影響石英資源的品質和工業用途。因此,必須分析天然石英礦物中雜質元素的賦存狀態,從而制定最佳的石英提純方案。


【關鍵詞】石英原料;雜質礦物;提純;高純石英



引言


石英砂是一種半透明的硅酸鹽礦物,其主要成分是SiO2,當SiO2含量高于99.99%時稱其為高純石英砂。高純石英材料具有化學性質穩定、雜質含量低、透光性好、光譜透過寬、抗熱沖擊、耐高溫、耐輻照、紫外線全穿透、抗析晶能力強、硬度大、熱膨脹系數小、電絕緣性好、耐幾乎所有酸的腐蝕(HF除外)等優異的物理化學性能[1]。高純石英砂廣泛應用在半導體、太陽能、航空航天、光伏產業等高端領域,是國家急需的戰略資源[2]


1 石英原料的雜質賦存狀態


石英砂的用途不同,對于雜質元素的種類和含量要求也存在差異。由于不同地區成礦條件不同,石英中雜質也各有不同[3]。天然石英礦物根據伴生雜質大小、分布、存在形式等特性可分為脈石礦物雜質、包裹體雜質和晶體結構雜質三類[4]


表1 石英原料中的雜質賦存狀態


1.1 脈石礦物雜質


共伴生獨立脈石礦物主要有長石云母、金紅石、方解石、赤鐵礦和黏土礦物等,是石英雜質元素的主要載體礦物,主要的雜質元素有Al、Fe、Ca、Mg、Li、Na、K、Ti、B、H等。這類礦物較易去除,將其單體解離開,通過常規選礦技術即可去除[1,4]


1.2 包裹體雜質


硅質原料在結晶時,由于成礦時的各種因素,導致結晶時產生空穴,構造發生缺陷,他類礦物的溶液注入其中,生長過程中被石英包圍便形成了包裹體[2]。石英礦物中存在大量流體包裹體,流體包裹體的種類、尺寸和含量對高純石英的質量有著重要的影響。石英中流體包裹體按內含物質狀態可以分為純氣體、純液體、氣液混合包裹體和三相包裹體。雖然經過高溫煅燒、反復強化混合酸浸、堿浸和熱壓浸出后能顯著降低雜質含量,但普遍含有大量流體包裹體的石英很難被加工為高純石英[5]


1.3 晶格結構雜質


石英中晶體結構雜質分為晶格雜質和非晶格雜質。晶格雜質主要由他類原子以類質同象的方式取代硅氧四面體中的硅原子,主要雜質元素有Al3+、Ti4+、Ge4+等。其中微量元素替代石英中的硅原子主要有等價替代、離子團替代和電荷補償三種替代方式。由于Al3+和Si4+半徑相近,Al3+替代Si原子最為常見,Al3+替代Si4+后為了達到電荷平衡,首先由正一價堿金屬離子(如Li+,Na+,K+ )以及H+來補償,如果堿金屬離子不足,有時用正二價的Ca2+,Mg2+離子及部分過渡金屬離子來補償,從而堿金屬離子(Li+,Na+,K+ )以及H+等可作為電荷補償離子進入石英晶格而賦存于石英晶格間隙中,因此可以通過石英中Al的含量判斷石英原料的質量[2,5,6]


2 石英原料中的雜質去除方法


2.1 煅燒-水淬


對石英進行煅燒和水淬。石英在高溫煅燒的過程中,隨著溫度的升高,石英晶體會發生膨脹,促使石英表面產生大量的裂紋。裂紋通常出現在界面處以及晶體結構的缺陷處,通過改變煅燒的溫度和時間,使包裹體破裂,雜質暴露于新的表面,從而在后續的流程中能夠被有效去除[1,4,6]


白佳星等對石英砂原料焙燒后,隨著溫度升高至900℃,保溫時間2h后,雜質鐵的去除率達41%,同時發現石英原料的水吸收峰大幅度減少,說明石英砂內部的包裹體經焙燒處理后被去除,達到了提純效果[7]


2.2 水洗-分級脫泥-擦洗


石英原礦磨礦過程中部分易泥化礦物形成微細粒的礦泥,會對后續選別造成不利影響[4],水洗和分級脫泥對于石英礦表面附著的泥土礦物具有較好的剔除效果[1]


擦洗是在機械外力和砂粒間的磨粒剝離力的作用下,將石英砂表面的薄膜鐵、粘性和渾濁雜質礦物去除,再通過脫泥工藝達到石英砂的除雜效果。擦洗機的結構、擦洗時間、擦洗樣品的濃度、擦洗的次數等工藝因素都影響著最終擦洗效果。擦洗技術主要分為棒磨擦洗和機械擦洗。機械擦洗可應用于企業加工,可以生產大量產品,并且操作簡單,成本低,缺點是除鐵率較低。在棒磨擦洗工藝中,加入適當的藥劑,增大雜質礦物與石英顆粒表面的電斥力,增強雜質礦物與石英顆粒之間的分離。與機械擦洗相比,棒磨擦洗的效果優于機械擦洗,但無法大規模生產應用[2]。 


2.3 重選-磁選-浮選


重選是根據礦物重力的不同對礦物進行篩選。礦物顆粒由于密度的不同在介質中受流體力和機械力的影響不同,產生松散的分層,從而礦石顆粒被分離[8]


磁選是利用石英中雜質礦物的磁導率的差異,在磁場的作用下,使具有磁性的雜質礦物得以選出。石英砂中的石英是反磁性物質,在磁場中不能被磁化,而其中含Fe、Ti的雜質大多是順磁性物質,可以被磁化,從而通過磁選可以除去含Fe、Ti的雜質,獲得很高的石英砂含量。影響磁選效果的因素有磁場強度、礦漿濃度、礦石粒度等[8]


浮選是利用礦物表面的天然或疏水性,攪拌樣品產生氣泡,然后氣泡將礦石顆粒帶到氣泡層進行提純。目前石英浮選的方法有三種:無氟有酸法、無氟無酸法、有氟有酸法。根據雜質礦物的種類又分為正浮選和反浮選。由于石英中存在大量的云母和長石,他們的表面性質與石英相同,在浮選過程中難度較大。雖然可以去除,但是僅在表面去除[2]。影響浮選效果的因素主要有浮選藥劑的選擇、礦漿的濃度、礦漿的pH值、石英粒度等。


  磁選、浮選工藝對單體解離度要求較高,對破碎到中細粒的石英的提純效果較好,一般用于生產石英粉或作為生產石英砂的前期處理工藝,但不適用于嵌布粒度較細,嵌布關系復雜的石英礦[9]


2.4 酸浸


礦物包裹體混合酸溶解利用石英只能溶解在氫氟酸中,而其他礦物包裹體雜質能被酸溶解的特點,實現石英與雜質的分離,常用的酸有硫酸、鹽酸、硝酸、氫氟酸等。硫酸對硫化礦、黃鐵礦等溶解效果好,鹽酸對方解石、白云石、方鉛礦等溶解效果好,硝酸對黃鐵礦、白鐵礦、砷黃鐵礦等溶解效果好,氫氟酸對硅酸鹽礦物有較好溶解性。天然石英礦物中雜質種類多且存在形式復雜,使用混合酸溶解石英中礦物包裹體雜質對石英砂提純效果最佳[5]


研究發現酸浸過程中使用混合酸去除雜質的效果比較好,石英會被氫氟酸溶解,所以混合酸中氫氟酸濃度不宜過高[8]。影響酸浸效果的因素有:酸浸時間、酸的濃度、洗滌過程和溫度等。


2.5 高溫氯化脫氣法


高溫氯化脫氣法對氣液包裹體的去除是有一定的效果的,然而一些金屬氧化物的氯化機理仍然比較復雜,特別是高溫氯化的起始溫度還是個難題,美國尤尼明公司主要采用此技術生產高純石英砂,在這項技術上尤尼明一直處于國際領先地位[10]


Sato和Kemmochi等[11] 通過建立在現有的研究成果上,將高溫氯化、磁選、電選等手段與當時的工藝結合,使石英砂中的雜質含量大幅度的降低,達到了生產高檔石英材料的標準。


2.6 高溫爆裂法


石英在高溫焙燒過程中,隨著溫度升高,流體包裹體內部壓力大于石英對包裹體束縛壓力,流體包裹體發生突然爆裂內部雜質得以釋放,再經后續酸清洗可以溶解流體包裹體內部雜質。絕大數流體包裹體達到均一溫度后便可爆裂,但并不是所有的流體包裹體都可以高溫爆裂。流體包裹體高溫爆裂時其內壓的增大主要是通過溫度升高實現,適當的選擇更高溫度對流體包裹體的爆裂可能會產生更好的效果。高溫真空焙燒時,石英內部流體包裹體受熱膨脹內壓劇增,同時由于爐內保持較高真空度,流體包裹體內外形成巨大的壓力差,增加了流體包裹體爆裂的可能性[5]


3 結論


石英在現代科學和技術領域的重要地位和作用越來越凸顯,其礦物學的研究對于了解雜質礦物特性和選擇分離石英的工藝至關重要。天然石英中雜質元素的賦存狀態、石英嵌布特征、包裹體數量大小以及晶格雜質等是選擇石英原料合適的雜質分離方案的重要支撐。因此分析石英原料的雜質賦存狀態,對于后續選擇合適的石英除雜提純方案是非常有必要的。


參考文獻:

[1]侯清麟,梁曉亮,周方革,肖嘉凱. 高純石英砂制備技術研究現狀[J]. 西部皮革,2021,43(18):12-14.

[2]張洪武. 石英礦中Al/Fe/氣液包裹體強化去除制備高純石英砂實驗研究[D].昆明理工大學,2021.

[3]劉加威. 石英砂焙燒—酸洗除雜工藝研究[D].安徽大學,2017.

[4]郭文達,韓躍新,朱一民,劉清俠,李艷軍. 高純石英砂資源及加工技術分析[J]. 金屬礦山,2019,(02):22-28.

[5]馬超,馮安生,劉長淼,邵偉華,趙平. 高純石英原料礦物學特征與加工技術進展[J]. 礦產保護與利用,2019,39(06):48-57.

[6]魏奎先,張洪武,馬文會,郭宋江,吳丹丹. 高純石英砂制備技術研究進展[J]. 昆明理工大學學報(自然科學版),2020,45(06):9-20.

[7]白佳星,李素芹,楊昌橋,孔加維. 焙燒對石英砂酸浸除鐵效果影響的試驗研究[J]. 化工礦物與加工,2017,46(03):17-19+55.

[8]石鈺,張磊,周東站,孫勇,廉嬌,王云,張敬,許慧超,于浩洋,樊志恒. 高純石英砂的制備及應用研究進展[J]. 中國建材科技,2019,28(04):73-75.

[9]林敏,裴振宇,熊康,臧芳芳. 我國高純石英制備技術現狀[J]. 礦產綜合利用,2017,(05):18-21.

[10]侯清麟,肖嘉凱,陳平飛,侯熠徽. 石英砂結構組成性雜質剔除技術現狀[J]. 廣州化工,2021,49(04):20-24.

[11] Kemmochi. High purity quartz glass and method for the preparationthereof. United States Patent. 968,259. 1999.

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