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【原創(chuàng)】高導(dǎo)熱氮化鋁陶瓷基片的制備技術(shù)


來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   初末

[導(dǎo)讀]  氮化鋁具有高熱導(dǎo)率、高溫絕緣性和優(yōu)良的介電性能、良好的耐腐蝕性、與半導(dǎo)體Si相匹配的膨脹性能等優(yōu)點(diǎn),因此成為優(yōu)良的電子封裝散熱材料,是組裝大型集成電路所必需的高性能陶瓷基片材料。

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  隨著大功率和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成電路和基片間的散熱性也越來(lái)越重要,因此,基片必須要具有高的導(dǎo)熱率和電阻率。




氮化鋁具有高熱導(dǎo)率、高溫絕緣性和優(yōu)良的介電性能、良好的耐腐蝕性、與半導(dǎo)體Si相匹配的膨脹性能等優(yōu)點(diǎn),因此成為優(yōu)良的電子封裝散熱材料,是組裝大型集成電路所必需的高性能陶瓷基片材料。


AlN陶瓷基片粉體制備


Al粉直接氮化法


Al粉直接氮化法原料來(lái)源廣、工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,能在較低溫度下反應(yīng),但此反應(yīng)屬于強(qiáng)放熱反應(yīng),反應(yīng)過(guò)程由于放出大量的熱量而不好控制,導(dǎo)致鋁粉轉(zhuǎn)化率低,產(chǎn)物易結(jié)塊,產(chǎn)品粒徑粗大,質(zhì)量穩(wěn)定性差,因此要小心控制工藝。


Al2O3碳熱還原法


碳熱還原法的優(yōu)點(diǎn)是原料來(lái)源廣、工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,合成的粉體純度高、粒徑小且分布均勻;其缺點(diǎn)在于合成時(shí)間較長(zhǎng)、氮化溫度較高,而且反應(yīng)后還需對(duì)過(guò)量的碳進(jìn)行除碳處理,導(dǎo)致生產(chǎn)成本較高。 


自蔓延高溫合成法


自蔓延高溫合成法的反應(yīng)速度很快,不需要外部加熱,成本低廉,但生產(chǎn)效率低,適應(yīng)于大批量工業(yè)化生產(chǎn)。反應(yīng)過(guò)程中升溫和冷卻的速度極快,易于形成高濃度缺陷和非平衡結(jié)構(gòu),粉末的晶形呈不規(guī)則狀,粒徑分布不均勻。


此外,氮化鋁粉體的制備方法還有高能球磨法、化學(xué)氣相沉積法、溶膠-凝膠法、等離子化學(xué)合成法、原位自反應(yīng)合成法、電弧熔煉法、微波合成法、溶劑熱合成法等。


AlN陶瓷基片的成型


流延成型


流延成型制備氮化鋁陶瓷基片的主要工藝,將氮化鋁粉料、燒結(jié)助劑、粘結(jié)劑、溶劑混合均勻制成漿料,通過(guò)流延制成坯片,采用組合模沖成標(biāo)準(zhǔn)片,然后用程控沖床沖成通孔,用絲網(wǎng)印刷印制金屬圖形,將每一個(gè)具有功能圖形的生坯片疊加,層壓成多層陶瓷生坯片,在氮?dú)庵屑s700℃排除粘結(jié)劑,然后在1800℃氮?dú)庵羞M(jìn)行共燒,電鍍后即形成多層氮化鋁陶瓷。


流延成型分為有機(jī)流延成型和水基流延成型兩種。流延成型法在AlN陶瓷基片方面的應(yīng)用具有極強(qiáng)的優(yōu)勢(shì),如設(shè)備要求低,可連續(xù)生產(chǎn)、生產(chǎn)效率高、自動(dòng)化程度高,其生產(chǎn)成本低廉,非常適合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)。


注射成型


首先將AlN粉體與有機(jī)粘結(jié)劑按一定比例混合,經(jīng)過(guò)造粒得到性能穩(wěn)定的喂料,然后在注射成型機(jī)上成型素坯,再經(jīng)過(guò)脫脂、燒結(jié)最終獲得AlN陶瓷基片。


流延等靜壓復(fù)合成型


傳統(tǒng)流延成型工藝所制備出的漿料固相體積含量較低,加上干燥階段中部分有機(jī)溶劑的揮發(fā),極易導(dǎo)致素坯中孔隙率的增加從而使坯體結(jié)構(gòu)疏松化,弱化后期燒結(jié)效果,難以制備出高致密度、高導(dǎo)熱AlN陶瓷基片。


流延等靜壓復(fù)合成型工藝是基于非水基和水基流延成型發(fā)展的一種新型陶瓷基片成型工藝,既保留了流延成型素坯的延展性,又在此基礎(chǔ)上采用等靜壓二次成型,彌補(bǔ)了前一成型過(guò)程留下的致密度低、結(jié)構(gòu)松散等缺陷。


AlN陶瓷基片的燒結(jié)工藝


燒結(jié)助劑及其添加方式


燒結(jié)助劑主要有兩方面的作用:一方面形成低熔點(diǎn)物相,實(shí)現(xiàn)液相燒結(jié),降低燒結(jié)溫度,促進(jìn)坯體致密化;另一方面,高熱導(dǎo)率是AlN基板的重要性能,而實(shí)際AlN基板中由于存在氧雜質(zhì)等各種缺陷,熱導(dǎo)率低于其理論值,加入燒結(jié)助劑可以與氧反應(yīng),使晶格完整化,進(jìn)而提高熱導(dǎo)率。


常用的燒結(jié)助劑主要是以堿土金屬和稀土元素的化合物為主,單元燒結(jié)助劑燒結(jié)能力往往很有限,通常要配合1800℃以上燒結(jié)溫度、較長(zhǎng)燒結(jié)時(shí)間及較多含量的燒結(jié)助劑等條件。燒結(jié)過(guò)程中如果僅只采用一種燒結(jié)助劑,所需要的燒結(jié)溫度難以降低,生產(chǎn)成本較高。二元或多元燒結(jié)助劑各成分間相互促進(jìn),往往會(huì)得到更加明顯的燒結(jié)效果。


目前,助燒劑引入的方式一般有2種,一種是直接添加,另一種是以可溶性硝酸鹽形式制成前驅(qū)體原位生成燒結(jié)助劑。后者所生成的燒結(jié)助劑組元分布更為均勻,顆粒更為細(xì)小,比表面能更大。


燒結(jié)溫度


燒結(jié)溫度的提高有助于提高AlN陶瓷的熱導(dǎo)率及強(qiáng)度。王利英等在1500~1800℃范圍內(nèi)燒結(jié),發(fā)現(xiàn)溫度的升高有利于AlN陶瓷材料熱導(dǎo)率的增大,得到的AlN陶瓷熱導(dǎo)率從76.9W/(m·K)升高到了113.9W/(m·K)。


在燒結(jié)爐中,燒結(jié)溫度的均勻性深刻影響著AlN陶瓷。燒結(jié)溫度均勻性的研究也為大批量生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本提供了保障,有利于實(shí)現(xiàn)AlN陶瓷基片產(chǎn)品的商業(yè)化生產(chǎn)。 


燒結(jié)方法


AlN陶瓷基片一般采用無(wú)壓燒結(jié),該燒結(jié)方法是一種最普通的燒結(jié),雖然工藝簡(jiǎn)單、成本較低、可制備形狀復(fù)雜,但燒結(jié)溫度一般偏高,再不添加燒結(jié)助劑的情況下,一般無(wú)法制備高性能陶瓷基片。


傳統(tǒng)燒結(jié)方式一般通過(guò)外部熱源對(duì)AlN坯體進(jìn)行加熱,熱傳導(dǎo)不均且速度較慢,將影響燒結(jié)質(zhì)量。微波燒結(jié)通過(guò)坯體吸收微波能量從而進(jìn)行自身加熱,加熱過(guò)程是在整個(gè)材料內(nèi)部同時(shí)進(jìn)行,升溫速度快,溫度分散均勻,防止AlN陶瓷晶粒的過(guò)度生長(zhǎng)。這種快速燒結(jié)技術(shù)能充分發(fā)揮亞微米級(jí)和納米級(jí)粉末的性能,具有很強(qiáng)的發(fā)展前景。


放電等離子燒結(jié)技術(shù)主要利用放電脈沖壓力、脈沖能和焦耳熱產(chǎn)生瞬間高溫場(chǎng)實(shí)現(xiàn)快速燒結(jié)。放電等離子燒結(jié)技術(shù)的主要特點(diǎn)是升溫速度快,燒結(jié)時(shí)間短,燒結(jié)溫度低,可實(shí)現(xiàn)AlN陶瓷的快速低溫?zé)Y(jié)。通過(guò)該燒結(jié)方法,燒結(jié)體的各個(gè)顆粒可類(lèi)似于微波燒結(jié)那樣均勻地自身發(fā)熱以活化顆粒表面,可在短時(shí)間內(nèi)得到致密化、高熱導(dǎo)燒結(jié)體。


參考資料:

倪紅軍、倪威等.高導(dǎo)熱AlN陶瓷基片制備技術(shù)研究現(xiàn)狀與發(fā)展趨勢(shì)

呂帥帥、周宇翔等.高導(dǎo)熱氮化鋁陶瓷制備技術(shù)的研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

王超、彭超群等.AlN陶瓷基板材料的典型性能及其制備技術(shù)

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