臺灣地區工研院化學工業研究所最近宣布成功研發一項有機無機混合納米材料，應用于制備光通信組件關鍵的平面光波導(PLC)芯片。它與其它材料的兼容性佳，并兼具有機與無機材料的優點：尺寸安定性高、加工容易、能依需求調控光學性質。由于這項新材料具感光特性，在工藝上能以顯影方式直接做出導光線路，可進一步應用于低成本的簡單工藝，大量制造高品質光通信組件。
據介紹，如同IC芯片的概念，平面光波導(Planar Lightwave Circuit；PLC)就是利用與傳統半導體兼容的工藝技術，將光學模塊整合在晶圓(wafer)上，有助于光通信組件積體化、縮小體積，并可以減少封裝次數、提高穩定度與可靠度，降低成本。平面光波導使用的材料非常多樣，包括無機或高分子材料。無機材料的應用發展較早，而高分子材料易調控，在工藝上較簡易，所需時間也較短。
當光纖通信朝向客戶端發展時，低價、體積小、可量產及多信道數(channel count)的光通信組件將是必然的發展趨勢，有別于傳統制造光通訊組件需要密集勞力、產能低、良率差，高分子平面光波導適用于量產低價高品質的光通信產品。除了光通信組件，還可廣泛應用于耐磨耗、抗反射的薄膜涂層開發，以及高經濟價值的多功能光觸媒、電極材料、絕熱、低介電及污染處理等材料上。
該所所長鄭武順表示，目前應用于平面光波導的高分子材料皆由海外大廠如日立、杜邦、陶氏化學、奇異等所掌握，由于各國廠商的策略應用，材料并不向聯盟以外的公司提供，因此臺灣地區光通信廠商面臨材料取得不易的困境。
該所光電材料技術組副組長張光偉說，化工所特別設計具感旋光性的有機無機混合納米材料，兼具無機材料的機械強度與高分子材料易加工兩者優點，可以曝光成像，能以簡單的旋轉涂布及曝光顯影方式直接做出導光線路，省卻傳統半導體工藝中必須蝕刻的步驟，不僅縮短研發到工藝的時間，更可大幅減少組件制造廠的設備投資成本。
負責此項技術研發的研究員田佩強調，化工所開發的新型材料透光率高、儲存安定性佳、能依不同的光學特性需求加以調控，經組件級的回切法(cut-back)測試，材料的光損耗率(optical loss)達0.5dB/cm，符合國際大廠制作高分子平面光波導材料的標準；精確控制折射率再現的表現(小至小數點以下第四位)更優于國際各大廠。田佩指出，未來化工所將在這項新材料與工藝的基礎上繼續發展，開發出可商品化的組件。
據介紹，如同IC芯片的概念，平面光波導(Planar Lightwave Circuit；PLC)就是利用與傳統半導體兼容的工藝技術，將光學模塊整合在晶圓(wafer)上，有助于光通信組件積體化、縮小體積，并可以減少封裝次數、提高穩定度與可靠度，降低成本。平面光波導使用的材料非常多樣，包括無機或高分子材料。無機材料的應用發展較早，而高分子材料易調控，在工藝上較簡易，所需時間也較短。
當光纖通信朝向客戶端發展時，低價、體積小、可量產及多信道數(channel count)的光通信組件將是必然的發展趨勢，有別于傳統制造光通訊組件需要密集勞力、產能低、良率差，高分子平面光波導適用于量產低價高品質的光通信產品。除了光通信組件，還可廣泛應用于耐磨耗、抗反射的薄膜涂層開發，以及高經濟價值的多功能光觸媒、電極材料、絕熱、低介電及污染處理等材料上。
該所所長鄭武順表示，目前應用于平面光波導的高分子材料皆由海外大廠如日立、杜邦、陶氏化學、奇異等所掌握，由于各國廠商的策略應用，材料并不向聯盟以外的公司提供，因此臺灣地區光通信廠商面臨材料取得不易的困境。
該所光電材料技術組副組長張光偉說，化工所特別設計具感旋光性的有機無機混合納米材料，兼具無機材料的機械強度與高分子材料易加工兩者優點，可以曝光成像，能以簡單的旋轉涂布及曝光顯影方式直接做出導光線路，省卻傳統半導體工藝中必須蝕刻的步驟，不僅縮短研發到工藝的時間，更可大幅減少組件制造廠的設備投資成本。
負責此項技術研發的研究員田佩強調，化工所開發的新型材料透光率高、儲存安定性佳、能依不同的光學特性需求加以調控，經組件級的回切法(cut-back)測試，材料的光損耗率(optical loss)達0.5dB/cm，符合國際大廠制作高分子平面光波導材料的標準；精確控制折射率再現的表現(小至小數點以下第四位)更優于國際各大廠。田佩指出，未來化工所將在這項新材料與工藝的基礎上繼續發展，開發出可商品化的組件。
