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CMP清洗品牌
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北京樣本
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化學(xué)濕法清洗設(shè)備
適用于晶圓CMP后清洗
全自動的高自動化形式（濕進(jìn)干出）
支持 6"、4"晶圓清洗
配備自凈功能
內(nèi)外環(huán)境隔離：干濕分離
晶圓缺失檢測報警系統(tǒng)
旋干及熱N? 吹干系統(tǒng)
暫無數(shù)據(jù)！
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