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設備介紹
氮氣、氬氣、空氣等氣體中高溫氧化脫烴、H2、CO等雜質
O2+CH4+H2+CO — CO2+H2O
AO2+CH4+H2+CO—CO2+H2O+AO脫氧深度高
脫除深度高（<0.1ppm）,使用溫度低、使用前不必激活
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