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單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法品牌
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產品技術參數:
| 產品名稱 | 單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法 |
| 貨號 | RDB-FSY-001 |
| 參數 | 片徑:0.2-5 um 厚度:~lnm 單層率:> 90wt% |
| 性質 | 拓撲絕緣體 |
| 應用 | 電化學能儲，電化學催化，器件，生物學研究等應用 |
產品規格：
固體含量100mg-1mg/ml-100
固體含量200mg-1mg/ml-200
固體含量500mg-1mg/ml-500
固體含量100mg-1mg/ml-100ml-乙醇
固體含量200mg-1mg/ml-200m1-乙醇
固體含量500mg-1mg/ml-500ml-乙醇
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-NMP
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-NMP
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-NMP
固體含量100mg-1mg/ml-100ml-IPA
固體含量200mg-1mg/ml-200ml-IPA
固體含量500mg-1mg/ml-500ml-IPA
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-DMF
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-DMF
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-DMF
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-DMSO
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-DMSO
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-DMSO
單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法照片:
SEM:
XRD: TEM:
AFM: 納米片真空抽濾薄膜::
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高熵合金（High entropy alloys，HEAs）是由4種或4種以上元素以等摩爾比或近似等摩爾比組成的具有簡單晶體結構的合金。與傳統合金不同，高熵合金沒有主體元素，傾向于形成簡單固溶體結構，
摘 要為改善難熔高熵合金的熱加工性，通過等離子輔助氣體合金化的方式在熔煉氣氛中通入 H?和 Ar 的混合氣體，使氫溶入TiZrHfNbMo 難熔高熵合金中。研究了不同 H 含量下，TiZrHfNbMo
研究背景7xxx系列鋁合金，如7075鋁合金，具有重量輕、強度高、耐腐蝕性能好、抗疲勞性能優異等特點，是航空航天和汽車工業的高性能工程合金。隨著航空航天工業的蓬勃發展，傳統的加工方法，如鑄造、激光焊接
研究背景金屬3D打印技術（又稱金屬增材制造）相較于傳統減材工藝，在復雜構件一體化成型、輕量化設計和材料利用率方面展現出顯著優勢。然而該技術目前僅能穩定應用于316L、IN718等有限種類的商用合金，其
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移動端
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