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4in.三靶聚焦共濺射鍍膜系統，可以滿足多組份或多層金屬和化合物濺射鍍膜，樣品臺同時具備公轉和自傳功能，可以同時安裝多片100mm樣品，薄膜厚度均勻性達到5%，靶材利用率達到40%以上。強磁場設計，可以滿足鐵磁材料濺射。濺射陰極主體采用聚四氟乙烯設計，優化水冷設計，可以滿足大功率密度濺射，成膜速率提高30%以上。
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