高真空電阻熱蒸發鍍膜機（高真空鍍膜機）采用電阻熱蒸發技術，它是在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜。可用于生產和科學實驗，可根據用戶要求專門訂制；可用于材料的物理和化學研究；可用于制備金屬導電電極；可用于有機材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池研究實驗等。

設備構成

-單鍍膜室

-單鍍膜室＋進樣室

-單鍍膜室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內）

-單鍍膜室＋進樣室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內）

-多鍍膜室＋樣品傳遞室＋手套箱（組成團簇式結構，樣品傳遞采用真空機械手）

設備組成

電阻熱蒸發源組件、樣品掩膜擋板系統、真空獲得系統及真空測量系統、分子泵（或冷泵）真空機組、旋轉基片加熱臺、工作氣路、手套箱連接部件、樣品傳遞機構，膜厚控制系統、電控系統、恒溫冷卻水系統等組成。

熱蒸發源類型和數量，可根據用戶需要進行配置。

可選件：膜厚監控儀，恒溫制冷水箱。

熱蒸發源種類及配置

電阻熱蒸發源組件：數量：1～12套（可根據用戶要求配裝）；

電阻熱蒸發源種類：鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發源組件、石英舟熱蒸發源組件、鎢極或鎢藍熱蒸發源組件、鉭爐熱蒸發源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）、束源爐熱蒸發組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）。

高真空電阻熱蒸發鍍膜機（高真空鍍膜機） 工作條件（實驗室應具備的設備工作條件）

供電：4kW，三相五線制～ AC 380V

工作環境濕度：10℃～ 40℃

工作環境溫度：≤50%

冷卻循環水：0.2m³/h，水溫18℃～ 25℃

水壓：0.15MPa ～ 0.25MPa

真空性能

極限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa

設備總體漏放率：關機12小時，≤10Pa

操作方式

手動、半自動