美國(guó)PE公司1980年就開(kāi)始致力于電子行業(yè)使用的等離子設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù)， 至今已成為全美***的等離子系統(tǒng)解決方案專業(yè)供應(yīng)商， 其旗下PE系列， BT大尺寸系列，大氣壓系列， PCB專用系列， Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過(guò)了30年， 廣泛應(yīng)用于全球各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實(shí)驗(yàn)室， 全球超過(guò)8000套用戶。

知名客戶如美國(guó)宇航局NASA， 波音Boeing， 霍尼韋爾Honeywell， 摩托羅拉Moto， 德國(guó)拜耳Bayer， 軍用飛機(jī)領(lǐng)軍企業(yè)洛克希德馬丁Lockheed-Martin， 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學(xué)， 麻省理工， 萊斯大學(xué)， 橡樹(shù)嶺國(guó)家實(shí)驗(yàn)室等等。

美國(guó)PE擁有等離子技術(shù)領(lǐng)域里*頂尖的技術(shù)， 憑借著多年研發(fā)和突破性創(chuàng)新， 先已擁有了多項(xiàng)技術(shù)**， 如**的溫控技術(shù)和**的靜電屏蔽技術(shù)， 使其等離子設(shè)備能提供****的處理效率， 均勻性和可靠性， 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設(shè)備的三倍以上。

應(yīng)用領(lǐng)域如下：

目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應(yīng)離子刻蝕，在真空電子、LED、太陽(yáng)能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

RIE系統(tǒng)刻蝕效果取決于氣體的流量，壓力和功率設(shè)置等方面。

我們?cè)O(shè)計(jì)和制造的反應(yīng)性離子蝕刻系統(tǒng)，可以滿足客戶的任何需要，且可以根據(jù)客戶的要求定制適合的等離子系統(tǒng)。我們的等離子處理系統(tǒng)，以提供快速，高品質(zhì)的蝕刻，低損傷，提供****的均勻性而著稱。

我們的等離子蝕刻機(jī)是理想的干蝕刻，目前正在采用的蝕刻：

半導(dǎo)體/集成電路

氮化鎵（甘）

氮化鋁鎵/氮化鎵（AlGaN/GaN）

砷化鎵/砷化鋁鎵（一般反避稅條款/ algaar）

砷化鎵（GaAs）

磷化銦、銦鋁砷/銦鎵砷化物（InP InGaAs/InAlAs）

硅（硅）

硅鍺（SiGe）

氮化硅陶瓷（Si3N4）

硅的溴化氫（sihbr）

硒化鋅（ZnSe）

金屬

鋁（鋁）

鉻（鉻）

鉑（鉑）

鉬（鉬）

鈮（鈮）

鉭（鉭）

鈦（Ti）

鎢（鎢）

電介質(zhì)

銦錫氧化物（ITO）

鋯鈦酸鉛（PZT）

碳化硅（碳化硅）

塑料/聚合物

聚四氟乙烯（PTFE）

聚甲醛（POM）

聚苯并咪唑（PBI）

聚醚醚酮（PEEK）

聚酰亞胺（聚酰亞胺）

聚酰胺（尼龍）

全氟烷氧基烷（PFA）

聚全氟乙丙烯（FEP）

聚烯烴

聚酯

失效分析