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硒化鋅分光鏡
硒化鋅分光鏡

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芬蘭

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筱曉(上海)光子技術有限公司

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硒化鋅分光鏡Zinc Selenide Beamsplitters

ZnSe 在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析ATR 棱鏡領域有著廣泛的應用。硒化鋅(Zinc Selenide)對于CO2激光器的元器件也是一種良好的選擇。在二氧化碳激光器工作的波段10.6 microns附近有著良好的透射率。硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料結晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質吸收散射損失極低。由于對10.6μm波長光的吸收很小因此成為制作高功率CO2激光器系統中光學器件的**材料。 此外在其整個透光波段內也是在不同光學系統中所普遍使用的材料。

硒化鋅材料對熱沖擊具有很高的承受能力使它成為高功率CO2激光器系統中的**光學材料。硬度只是多光譜級ZnS2/3, 材質較軟易產生劃痕而且材料折射率較大所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內散射很低。在用做高功率激光器件時需要嚴格控制材料的體吸收和內部結構缺陷并采用*小破壞程度的拋光技術和**光學質量的鍍膜工藝。

廣泛應用于激光醫學,天文學和紅外夜視等領域中。

訂購型號:MPZNSEBS50.8-50.8

參數:

IR Polished Zinc Selenide (ZnSe) beamsplitter

50.8 x 50.8 x 3mm 45° beamsplitter.

50% transmission / 50% reflection @45° for 2-14μm

參數詳細信息:

透射波段范圍 :

0.6 to 21.0 um

折射率:

2.4028 at 10.6 um

反射損耗:

29.1% at 10.6 um (2 surfaces)

吸收系數:

0.0005 cm-1at 10.6 um

吸收峰:

45.7 um

dn/dT :

+61 x 10-6/ at 10.6 um at 298K

dn/du = 0 :

5.5 um

密度:

5.27 g/cc

熔點:

1525 (see notes below)

導熱系數:

18 W m-1K-1at 298K

熱膨脹:

7.1 x 10-6/at 273K

硬度 :

Knoop 120 with 50g indenter

比熱容量 :

339 J Kg-1聽K-1

Dielectric Constant :

n/a

Youngs Modulus (E) :

67.2 GPa

Shear Modulus (G) :

n/a

Bulk Modulus (K) :

40 GPa

彈性系數 :

Not Available

Apparent Elastic Limit :

55.1 MPa (8000 psi)

泊松比 :

0.28

Solubility :

0.001g/100g water

Molecular Weight :

144.33

Class/Structure :

HIP polycrystalline cubic, ZnS, F43m

No = Ordinary Ray

μm

No

μm

No

μm

No

0.54

2.6754

0.58

2.6312

0.62

2.5994

0.66

2.5755

0.7

2.5568

0.74

2.5418

0.78

2.5295

0.82

2.5193

0.86

2.5107

0.90

2.5034

0.94

2.4971

0.98

2.4916

1.0

2.4892

1.4

2.4609

1.8

2.4496

2.2

2.4437

2.6

2.4401

3.0

2.4376

3.4

2.4356

3.8

2.4339

4.2

2.4324

4.6

2.4309

5.0

2.4295

5.4

2.4281

5.8

2.4266

6.2

2.4251

6.6

2.4235

7.0

2.4218

7.4

2.4201

7.8

2.4183

8.2

2.4163

8.6

2.4143

9.0

2.4122

9.4

2.4100

9.8

2.4077

10.2

2.4053

10.6

2.4028

11.0

2.4001

11.4

2.3974

11.8

2.3945

12.2

2.3915

12.6

2.3883

13.0

2.3850

13.4

2.3816

13.8

2.3781

14.2

2.3744

14.6

2.3705

15.0

2.3665

15.4

2.3623

15.8

2.3579

16.2

2.3534

16.6

2.3487

17.0

2.3438

17.4

2.3387

17.8

2.3333

18.2

2.3278

關于晶體切割:

During Chemical Vapour Deposition the small crystallite grains align with the direction of growth, and are

normal to the thickness of the sheet produced. For windows of normal thickness and aspect ratios the alignmentof the grain therefore is rarely a problem as they are cut from the grown sheet such that within an optical windowthe grains align perpendicular to the surfaces. This is optimum orientation for lowest internal absorption andscatter.

With prisms, the cutting direction requires more consideration. It isrecommended that the thickness of the stripmaterial corresponds to the apex

height of the prism. This ensures optimum crystallite orientation for most usual

prism applications.

For typical 45° prisms the most obvious use of material is shown in (A) but it

should be noted that this is not the optimum orientation.

The best choice is (B) and it also permitsa higher limit on prism size orconverselyallows thinner stock to be used. There iswaste at the ends of the strip but this issmall and so it may not be quite aseconomic as (A).

Cutting in direction (C) where the entire light beam runs at 90° to the grain

structure should be avoided completely if at all possible.Note that maximum available thickness of ZnSe and ZnS (FLIR) is approximately 60mm. Maximum availablethickness of ZnS Cleartran is approximately 30mm

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