208HR高分辨離子濺射儀為場發射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。

場發射掃描電鏡觀察時，樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累，并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到*小程度，208HR提供了一系列的鍍膜材料，并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。

208HR分子渦輪泵高真空系統提供寬范圍的操作壓力，可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制，并**程度減小充電效應。高/低樣品室的結構設計使靶材和樣品之間的距離調節變得極為方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制，它尤其適合場發射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的要求。

場發射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是：

• Pt/Pd：非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料

• Cr：優良的半導體樣品的鍍膜材料

• Ir：優良的真正無細晶的鍍膜材料

208HR系統為得到**高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇，可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵，標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

一、主要特性

·可選擇多種鍍膜材料

·精確的膜厚控制

·樣品臺控制靈活：可對樣品臺進行獨立的旋轉、行星式轉動、傾斜控制，保證形貌差異大的樣品也能得到**的鍍膜效果。

·多個樣品座：提供4個樣品座，每個樣品座直徑32mm，可裝載多達6個小樣品座。

·樣品室幾何可變：樣品室幾何用于調節鍍膜的速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

·寬范圍的操作壓力：獨立的功率和壓力調節，氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。

·緊湊、現代的桌上型設計

·操作容易

二、技術參數